[發明專利]軟土地基處理系統及軟土地基處理方法

在審

• 申請號: 202011208219.2
• 申請日: 2020-11-03
• 公開（公告）號: CN112502130A
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 黃俊光;李偉科;李磊;李健斌;陳香波;梁永恒;王淵;孫世永;林祖鍇;羅永健;劉志宏;張帥
• 申請（專利權）人: 廣州市設計院
• 主分類號: E02D3/10
• 分類號: E02D3/10;E02D5/30
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 曾旻輝

1.一種軟土地基處理系統，其特征在于，包括：

密封膜；

增壓裝置，所述增壓裝置包括預制管樁和高壓氣源，所述預制管樁的側壁設有第一通孔，所述高壓氣源用于朝所述預制管樁內輸入高壓氣體；及

真空裝置，所述真空裝置包括排水件和抽真空器，所述排水件設有排水腔和第二通孔，所述第二通孔設在所述排水件的側壁并與所述排水腔相通，所述抽真空器用于對所述排水件進行抽真空處理，所述排水件與所述預制管樁呈間隔設置。

2.根據權利要求1所述的軟土地基處理系統，其特征在于，所述第一通孔設有至少兩個，相鄰的所述第一通孔之間呈間隔設置；

所述第一通孔與所述預制管樁的上端之間的最小距離為第一距離，所述第一距離為3m-6m。

3.根據權利要求1所述的軟土地基處理系統，其特征在于，所述第一通孔設有多個，所述第一通孔沿所述預制管樁的軸線呈盤旋環繞設置。

4.根據權利要求1所述的軟土地基處理系統，其特征在于，所述增壓裝置還包括過濾器，所述過濾器包括單向閥和連接件，所述單向閥設在所述第一通孔內，所述連接件與所述預制管樁連接并用于安裝所述單向閥。

5.根據權利要求4所述的軟土地基處理系統，其特征在于，所述過濾器還包括過濾件，所述過濾件設在所述單向閥的位于所述預制管樁外側的一側。

6.根據權利要求1-5任一項所述的軟土地基處理系統，其特征在于，所述排水件為排水板，所述排水腔設在所述排水板的內部，所述第二通孔在所述排水板的側壁上開設有至少兩個；

所述排水件的外側設有濾膜，所述濾膜與所述第二通孔對應。

7.根據權利要求1-5任一項所述的軟土地基處理系統，其特征在于，所述增壓裝置還包括第一管道，所述第一管道的一端與所述高壓氣源連通，所述第一管道的另一端與所述預制管樁連通；

所述真空裝置還包括第二管道，所述第二管道的一端與所述抽真空器連通，所述第二管道的另一端與所述排水件連通；

所述真空裝置還包括水氣分離器，所述水氣分離器設在所述第二管道上，且所述水氣分離器位于所述抽真空器和所述排水件之間；

所述真空裝置還包括排水泵，所述排水泵與所述水氣分離器連接。

8.根據權利要求1-5任一項所述的軟土地基處理系統，其特征在于，所述預制管樁設有至少兩個，相鄰的所述預制管樁之間呈間隔設置，且相鄰的所述預制管樁之間設有一個所述排水件；

或所述排水件設有至少兩個，相鄰的所述排水件之間呈間隔設置，且相鄰的所述排水件之間設有一個所述預制管樁；

或所述預制管樁設有多個，相鄰的所述預制管樁之間呈間隔設置，多個所述預制管樁環繞于一個所述排水件的外周；

或所述排水件設有多個，相鄰的所述排水件之間呈間隔設置，多個所述排水件環繞于一個所述預制管樁的外周。

9.一種軟土地基處理方法，其特征在于，能夠應用于如權利要求1-8任一項所述的軟土地基處理系統，所述軟土地基處理方法包括以下步驟：

將預制管樁打入預處理區域的軟土地基；將排水件打入所述預處理區域的軟土地基，且所述排水件與所述預制管樁呈間隔設置；

將高壓氣源與所述預制管樁連通；將抽真空器與所述排水件連通；

在所述預處理區域的上方布置密封膜，使所述預制管樁和所述排水件均處于所述密封膜的密封區域內；

啟動所述高壓氣源，以朝所述預制管樁內輸入高壓氣體；啟動所述抽真空器，以對所述排水件進行抽真空處理。

10.根據權利要求9所述的軟土地基處理方法，其特征在于，在啟動所述抽真空器，以對所述排水件進行抽真空處理的步驟之前，還包括以下步驟：

在所述預處理區域的軟土地基的外圍形成氣密墻；

在啟動所述高壓氣源，以朝所述預制管樁內輸入高壓氣體的過程中，所述高壓氣源間歇性地朝所述預制管樁內輸入高壓氣體；或所述高壓氣源連續性的朝所述預制管樁內輸入高壓氣體。