[發明專利]對量測數據的貢獻的分離

有效

• 申請號: 202011207943.3
• 申請日: 2017-02-17
• 公開（公告）號: CN112255892B
• 公開（公告）日: 2023-07-18
• 發明（設計）人: W·T·特爾;F·斯塔爾斯;M·J·馬斯洛;R·阿努西亞多;M·喬徹姆森;H·A·J·克拉默;T·希尤維斯;P·C·欣南
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 呂世磊

1.一種用于處理量測數據的方法，包括：

通過從襯底上的第一圖案的量測數據中去除第一組一個或多個處理變量的變化對所述量測數據的貢獻，來獲得第二組一個或多個處理變量的變化對所述量測數據的貢獻；以及

由硬件計算機基于所述第二組一個或多個處理變量的變化對所述第一圖案的所述量測數據的貢獻，來獲得所述第二組一個或多個處理變量的變化對所述襯底上的第二圖案的量測數據的貢獻。

2.根據權利要求1所述的方法，還包括：通過基于所述第二組一個或多個處理變量的變化對所述第二圖案的所述量測數據的貢獻調節所述第一組一個或多個處理變量中的一個或多個變量，來降低所述第二圖案處的缺陷的概率。

3.根據權利要求1所述的方法，其中在不獲得所述第二圖案的所述量測數據的情況下，獲得所述第二組一個或多個處理變量的變化對所述第二圖案的所述量測數據的貢獻。

4.一種用于處理量測數據的方法，包括：

通過組合被建模的第一組一個或多個處理變量的變化對熱斑的量測數據的貢獻和未被建模的第二組一個或多個處理變量的變化對所述量測數據的貢獻，來獲得所述量測數據的估計；以及

由硬件計算機基于所述量測數據的估計來確定所述熱斑處是否存在缺陷。

5.根據權利要求4所述的方法，其中在不對所述熱斑執行量測的情況下，獲得所述估計。

6.一種用于處理量測數據的方法，包括：

通過從圖案的量測數據中去除第一組一個或多個處理變量的變化的貢獻，來獲得第二組一個或多個處理變量的變化對所述量測數據的貢獻；以及

通過由硬件計算機對照所述第二組一個或多個處理變量的變化對所述圖案的所述量測數據的貢獻擬合模型的參數來獲得所述參數的值，所述模型用于確定所述第二組一個或多個處理變量的變化對所述量測數據的貢獻。

7.一種非瞬態計算機可讀介質，其上記錄有指令，所述指令在由計算機執行時實現根據權利要求6所述的方法。

8.一種非瞬態計算機可讀介質，其上記錄有指令，所述指令在由計算機執行時執行：

獲得被建模的第一處理變量對襯底上的圖案的量測數據的第一貢獻，其中所述第一貢獻是根據與用來圖案化所述襯底的光刻設備相關聯的數據確定的；

獲得未被建模的第二處理變量對所述圖案的所述量測數據的第二貢獻，其中所述第二處理變量的貢獻是與由所述光刻設備在圖案化所述襯底時使用的圖案形成裝置相關聯的場內指紋以及與在使用所述光刻設備之前或之后的工藝中使用的設備相關聯的場間指紋；以及

由硬件計算機通過組合所述第一貢獻和所述第二貢獻來獲得所述量測數據。