[發明專利]用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構

在審

• 申請號: 202011207930.6
• 申請日: 2020-11-03
• 公開（公告）號: CN112192449A
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發明（設計）人: 簡思鑫;王洪宣
• 申請（專利權）人: 重慶浪尖智能科技研究院有限公司
• 主分類號: B24C1/08
• 分類號: B24C1/08;B24C3/04;B24C9/00;G01B13/00
• 代理公司: 深圳科灣知識產權代理事務所(普通合伙) 44585
• 代理人: 鐘斌

1.用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，包括設置在放置工位上的撐柱以及回轉氣缸，所述撐柱中設有下氣道，所述下氣道在撐柱的頂部形成供氣缸抵接覆蓋的下出氣口，所述下氣道上設有檢測下氣道內的氣壓值的下傳感器，所述回轉氣缸上具有上下移動且同步轉動的抵壓頭；所述下氣道通過氣管與氣泵連接；當氣缸下方的放置工位上后，所述回轉氣缸帶動抵壓頭朝向所述撐柱的上方轉動并下降，自上而下抵壓在氣缸上。

2.如權利要求1所述的用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，所述抵壓頭的上方設有上氣頭，所述上氣頭中設有上氣道，所述上氣道在所述上氣頭的底部形成有上出氣口，所述上氣道上設有檢測上氣道內的氣壓值的上傳感器，所述上氣道通過氣管與氣泵連接；當所述回轉氣缸帶動抵壓頭偏離所述撐柱的上方轉動并上升時，所述抵壓頭自下而上抵接上氣頭，并封閉所述上出氣口。

3.如權利要求2所述的用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，所述抵壓頭的頂部設置有朝上凸起的上頂塊；當所述回轉氣缸帶動抵壓頭偏離所述撐柱的上方轉動并上升后，所述抵壓頭的上頂塊自下而上嵌入所述上氣頭，并封閉所述上出氣口。

4.如權利要求3所述的用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，所述上氣頭具有朝向所述放置工位的外側部，所述外側部具有側向開口，所述側向開口貫通至所述上出氣口；當所述回轉氣缸帶動抵壓頭偏離所述撐柱的上方轉動并上升時，所述抵壓頭的上頂塊由所述側向開口嵌入所述上出氣口，并封閉所述上出氣口。

5.如權利要求4所述的用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，所述上頂塊的頂部呈弧面狀，且所述上頂塊的頂部封蓋彈性層；當所述上頂塊由所述側向開口嵌入所述上出氣口，所述彈性層封閉所述上氣道。

6.如權利要求1所述的用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，所述撐柱的頂部設置有下彈性圈，所述下彈性圈環繞在所述下出氣口的外周，所述下彈性圈的上部設置有多個朝下凹陷的缺口，多個所述缺口沿著所述下彈性圈的周向間隔布置；當所述氣缸置于放置工位上后，所述氣缸抵接在所述下彈性圈上。

7.如權利要求6所述的用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，所述彈性圈的頂部朝上延伸，形成傾斜環，所述傾斜環環繞所述彈性圈的周向延伸布置，且沿著自下而上的方向，所述傾斜環朝內傾斜布置。

8.如權利要求7所述的用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，所述抵壓頭的內端連接在所述回轉氣缸的回轉軸上，所述抵壓頭的外端朝外延伸形成抵壓端，所述抵壓端的底部朝下凸設有抵壓氣缸的抵壓環；當所述抵壓頭的抵壓環抵接在氣缸上后，所述抵壓環與下出氣口呈上下對齊布置。

9.如權利要求8所述的用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，所述抵壓環的直徑大于所述彈性圈的直徑。

10.如權利要求9所述的用于高溫有水環境中檢測氣缸到位結構，其特征在于，所述氣缸的側邊設置有縱向柱，所述縱向柱的內部中空，所述縱向柱的內部通過氣管與氣泵連接；所述上氣頭布置在所述縱向柱的頂部的外側，所述上氣頭的上氣道與縱向柱的內部通過過渡管連接，所述過渡管布置在所述縱向柱及上氣頭的上方，呈朝上拱起狀布置。