[發(fā)明專利]配電室系統(tǒng)和SF6氣體濃度檢測方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011207904.3
• 申請日: 2020-11-02
• 公開（公告）號: CN112394106A
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林孝文
• 申請（專利權(quán)）人: 珠海華瑞誠科技有限公司
• 主分類號: G01N29/032
• 分類號: G01N29/032;G01N29/44;E04H5/04
• 代理公司: 珠海智專專利商標(biāo)代理有限公司 44262
• 代理人: 黃國豪

1.SF6氣體濃度檢測方法，其特征在于，包括：

采集背景噪聲并獲取噪聲數(shù)據(jù)；

輸出預(yù)設(shè)頻率的探測聲音；

采集當(dāng)前的聲場數(shù)據(jù)；

根據(jù)所述噪聲數(shù)據(jù)對所述聲場數(shù)據(jù)進(jìn)行噪音過濾；

根據(jù)過濾后的所述聲場數(shù)據(jù)計算SF6氣體濃度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的SF6氣體濃度檢測方法，其特征在于：

所述根據(jù)所述噪聲數(shù)據(jù)對所述聲場數(shù)據(jù)進(jìn)行噪音過濾的步驟，包括：

將所述噪聲數(shù)據(jù)取反處理；

通過正負(fù)抵消算法根據(jù)取反后的所述噪聲數(shù)據(jù)對所述聲場數(shù)據(jù)進(jìn)行背景噪聲過濾。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的SF6氣體濃度檢測方法，其特征在于：

所述預(yù)設(shè)頻率的探測聲音包括第一頻率探測聲音、第二頻率探測聲音或第三頻率探測聲音，所述第一頻率探測聲音、所述第二頻率探測聲音和所述第三頻率探測聲音的頻率均不同。

4.配電室系統(tǒng)，其特征在于，包括：

密閉腔室，所述密閉腔室形成有密封腔體，所述密封腔體用于存儲有SF6氣體；

配電設(shè)備，所述配電設(shè)備設(shè)置在所述密封腔體內(nèi)；

氣體濃度檢測裝置，所述氣體濃度檢測裝置包括聲場傳感器和發(fā)聲音源，所述聲場傳感器和所述發(fā)聲音源位于所述密封腔體內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的配電室系統(tǒng)，其特征在于：

所述聲場傳感器和所述發(fā)聲音源位于所述密閉腔室的同一側(cè)上，所述聲場傳感器和所述發(fā)聲音源之間設(shè)置有中隔板。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的配電室系統(tǒng)，其特征在于：

所述中隔板采用玻璃纖維制成。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的配電室系統(tǒng)，其特征在于：

所述密閉腔室呈矩形設(shè)置，所述密閉腔室包括第一內(nèi)側(cè)壁、第二內(nèi)側(cè)壁、第三內(nèi)側(cè)壁和第四內(nèi)側(cè)壁，所述第一內(nèi)側(cè)壁與所述第二內(nèi)側(cè)壁相對，所述第三內(nèi)側(cè)壁與所述第四內(nèi)側(cè)壁相對；

所述聲場傳感器和所述發(fā)聲音源位于靠近所述第一內(nèi)側(cè)壁，所述第二內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有聲音反射區(qū)，所述第三內(nèi)側(cè)壁與所述第四內(nèi)側(cè)壁均設(shè)置有吸音件。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的配電室系統(tǒng)，其特征在于：

所述密閉腔室的外壁設(shè)置有隔音件。