[發明專利]雷達圖生成方法、裝置、設備及存儲介質在審
| 申請號: | 202011207431.7 | 申請日: | 2020-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN112330772A | 公開(公告)日: | 2021-02-05 |
| 發明(設計)人: | 成卓鴻 | 申請(專利權)人: | 平安普惠企業管理有限公司 |
| 主分類號: | G06T11/20 | 分類號: | G06T11/20 |
| 代理公司: | 北京市京大律師事務所 11321 | 代理人: | 姚維 |
| 地址: | 518027 廣東省深圳市前海深港合作區前*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雷達 生成 方法 裝置 設備 存儲 介質 | ||
1.一種雷達圖生成方法,其特征在于,所述雷達圖生成方法包括:
獲取圖像創建指令,其中,所述圖像創建指令包括雷達圖表征的參數數目,所述參數數目為不小于3的整數;
根據所述雷達圖表征的參數數目,使用畫布標簽描繪出對應的基礎框架圖,其中,所述基礎框架圖包括與所述參數數目相同數量的第一頂點;
獲取用戶輸入的參數值,根據所述參數值和所述第一頂點在所述畫布標簽的坐標系中的坐標,計算雷達圖的第二頂點的坐標;
根據所述第二頂點的坐標,設置對應的文案信息;
根據所述第二頂點的坐標,生成雷達圖區域,并將所述雷達圖區域、文案信息和所述基礎框架圖結合,得到成品雷達圖并展示。
2.根據權利要求1所述的雷達圖生成方法,其特征在于,所述根據所述雷達圖表征的參數數目,使用畫布標簽描繪出對應的基礎框架圖包括:
根據所述參數數目和預設的指定尺寸,初始化生成正多邊形,其中,所述正多邊形的邊數與所述參數數目相同,所述正多邊形用于描繪所述基礎框架圖;
將所述正多邊形的重心和所述坐標系的坐標原點重合,并使所述正多邊形的一個頂點設置于所述坐標系中的x軸;
計算所述正多邊形各頂點在所述坐標系中的坐標,并將正多邊形各頂點的坐標作為所述第一頂點的坐標;
根據所述第一頂點的坐標描繪所述基礎框架圖。
3.根據權利要求2所述的雷達圖生成方法,其特征在于,所述計算所述正多邊形各頂點在所述坐標系中的坐標,并將正多邊形各頂點的坐標作為所述第一頂點的坐標包括:
在所述坐標系中描繪所述正多邊形的外接圓;
連接所述正多邊形的頂點和所述坐標原點,得到連接線,并計算所述連接線與所述x軸的夾角;
根據所述正多邊形的邊數、所述外接圓的半徑和所述夾角,計算所有所述正多邊形的頂點坐標,并作為所述第一頂點的坐標。
4.根據權利要求3所述的雷達圖生成方法,其特征在于,所述獲取用戶輸入的參數值,根據所述參數值和所述第一頂點在所述畫布標簽的坐標系中的坐標,計算雷達圖的第二頂點的坐標包括:
獲取用戶輸入的參數值;
計算所述參數值與所述基礎框架圖中各第一頂點所表征的頂點值的比值;
根據所述比值和所述第一頂點的坐標,對所述第一頂點進行比例縮放,得到第二頂點的坐標。
5.根據權利要求1-4任一項中所述的雷達圖生成方法,其特征在于,在所述根據所述第二頂點的坐標,生成雷達圖區域,并將所述雷達圖區域、文案信息和所述基礎框架圖結合,得到成品雷達圖并展示之前,還包括:
設置蒙層遮罩所述成品雷達圖的生成區域。
6.根據權利要求5所述的雷達圖生成方法,其特征在于,所述根據所述第二頂點,生成雷達圖區域,并將所述雷達圖區域、文案信息和所述基礎框架圖結合,得到成品雷達圖并展示包括:
將所有所述第二頂點與所述坐標原點連接,并計算所有所述第二頂點與所述坐標原點之間的距離,得到至少一個距離值;
依次根據相鄰的兩個距離值,以所述坐標原點為中心進行裁切,得到至少一個裁切區塊;
將所有所述裁切區塊拼接,得到雷達圖區域;
將所述雷達圖區域、文案信息和所述基礎框架圖結合,得到成品雷達圖;
將所述蒙層動態打開,使得所述雷達圖動態展示。
7.根據權利要求1所述的雷達圖生成方法,其特征在于,在根據預設的蒙層遮蔽所述雷達區域,生成雷達圖之后,還包括:
判斷當前光標是否位于所述雷達圖區域內;
若是,則確定距離所述當前光標最近的參數;
顯示所述參數的參數值和對應頂點的文案。
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