[發(fā)明專利]觸控薄膜及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011206929.1 | 申請日: | 2020-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN112269496A | 公開(公告)日: | 2021-01-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊柏儒;鐘敏;邱志光;許嘉哲;吳梓毅 | 申請(專利權(quán))人: | 中山大學 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041 |
| 代理公司: | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 趙蕊紅 |
| 地址: | 510275 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種觸控薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供一薄膜襯底;
在所述薄膜襯底上進行壓印,在所述薄膜襯底上制備出豎直方向的多個第一溝道和水平方向的多個第二溝道;其中,所述第一溝道和所述第二溝道相互交叉;所述第一溝道形成有由導電材料填充得到的第一溝道導電層,所述第二溝道形成有由導電材料填充得到的第二溝道導電層;
在所述第一溝道與所述第二溝道的交叉處形成帶有導電層的中間絕緣結(jié)構(gòu),以使得所述第一溝道導電層和所述第二溝道導電層通過所述中間絕緣結(jié)構(gòu)絕緣交叉,位于同一豎直方向的第一溝道導電層或位于同一水平方向的第二溝道導電層通過所述中間絕緣結(jié)構(gòu)上的導電層相連接,形成觸控結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控薄膜的制備方法,其特征在于,所述第一溝道和所述第二溝道位于所述薄膜襯底的同一高度;
同一水平方向上的第二溝道在與所述第一溝道的交叉處斷開,或同一豎直方向上的第一溝道在與所述第二溝道的交叉處斷開。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸控薄膜的制備方法,其特征在于,所述在所述第一溝道與所述第二溝道的交叉處形成帶有導電層的中間絕緣結(jié)構(gòu)的步驟包括:
在所述第一溝道與所述第二溝道的交叉處的上方形成絕緣的跨橋結(jié)構(gòu);
在所述跨橋結(jié)構(gòu)上形成導電層,以使得同一水平方向上斷開的第二溝道導電層通過所述導電層相連接,所述第一溝道導電層與所述導電層相絕緣,或同一豎直方向上斷開的第一溝道導電層通過所述導電層相連接,所述第二溝道導電層與所述導電層相絕緣。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控薄膜的制備方法,其特征在于,通過噴墨打印的方式在所述第一溝道和所述第二溝道的交叉處形成所述跨橋結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控薄膜的制備方法,其特征在于,通過噴墨打印的方式在所述第一溝道和所述第二溝道上填充導電材料形成第一導電溝道層和第二導電溝道層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項所述的觸控薄膜的制備方法,其特征在于,在所述形成觸控結(jié)構(gòu)的步驟之后,還包括以下步驟:
在所述觸控結(jié)構(gòu)之上涂覆防水氧材料。
7.一種觸控薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供一薄膜襯底;
在所述薄膜襯底上進行壓印,在所述薄膜襯底上制備出豎直方向的多個第一溝道;
在所述第一溝道上填充導電材料,得到第一溝道導電層;
在薄膜襯底上形成有所述第一溝道和所述第一溝道導電層所對應(yīng)的面上涂覆絕緣材料,形成中間絕緣層;
在所述中間絕緣層上壓印出水平方向的多個第二溝道;
在所述第二溝道上填充導電材料形成第二溝道導電層,形成觸控結(jié)構(gòu);
其中,所述第一溝道導電層與所述第二溝道導電層通過所述中間絕緣層在空間位置上絕緣交叉。
8.一種觸控薄膜,其特征在于,包括:
薄膜襯底;
通過壓印方式形成于所述薄膜襯底上的豎直方向的多個第一溝道和水平方向的多個第二溝道;其中,所述第一溝道和所述第二溝道相互交叉;所述第一溝道形成有由導電材料填充得到的第一溝道導電層,所述第二溝道形成有由導電材料填充得到的第二溝道導電層;
所述第一溝道與所述第二溝道的交叉處形成有帶有導電層的中間絕緣結(jié)構(gòu),所述第一溝道導電層和所述第二溝道導電層通過所述中間絕緣結(jié)構(gòu)絕緣交叉,位于同一豎直方向的第一溝道導電層或位于同一水平方向上的第二溝道導電層通過所述中間絕緣結(jié)構(gòu)上的導電層相連接,形成觸控結(jié)構(gòu)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中山大學,未經(jīng)中山大學許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011206929.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G06F 電數(shù)字數(shù)據(jù)處理
G06F3-00 用于將所要處理的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變成為計算機能夠處理的形式的輸入裝置;用于將數(shù)據(jù)從處理機傳送到輸出設(shè)備的輸出裝置,例如,接口裝置
G06F3-01 .用于用戶和計算機之間交互的輸入裝置或輸入和輸出組合裝置
G06F3-05 .在規(guī)定的時間間隔上,利用模擬量取樣的數(shù)字輸入
G06F3-06 .來自記錄載體的數(shù)字輸入,或者到記錄載體上去的數(shù)字輸出
G06F3-09 .到打字機上去的數(shù)字輸出
G06F3-12 .到打印裝置上去的數(shù)字輸出





