[發明專利]溶劑組合物、清洗方法、涂膜的形成方法、熱傳遞介質和熱循環系統有效
| 申請號: | 202011204778.6 | 申請日: | 2016-04-20 |
| 公開(公告)號: | CN112300874B | 公開(公告)日: | 2021-07-30 |
| 發明(設計)人: | 中村允彥;光岡宏明;市野川真理;藤森厚史;岡本秀一 | 申請(專利權)人: | AGC株式會社 |
| 主分類號: | C11D7/50 | 分類號: | C11D7/50;C11D7/30;C11D7/60;B08B3/08;C09K5/10;C09D7/20 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 劉多益;張佳鑫 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 溶劑 組合 清洗 方法 形成 傳遞 介質 循環系統 | ||
本發明提供對各種有機物的溶解性優良、清洗性優良且不對地球環境產生負面影響的穩定性優良并能抑制金屬的腐蝕的溶劑組合物,使用了該溶劑組合物的清洗方法和涂膜的形成方法,含有該溶劑組合物的熱傳遞介質以及使用了該熱傳遞介質的熱循環系統。即,含有HCFO?1233yd和HCFC?244ca的溶劑組合物,相對于HCFO?1233yd的含量與HCFC?244ca的含量的總計,HCFC?244ca的含量的比例為0.0001~1質量%;使該溶劑組合物與被清洗物品接觸的清洗方法;在該溶劑組合物中溶解不揮發性有機化合物以制造涂膜形成用組合物,在被涂布物上涂布了該涂膜形成用組合物后使溶劑組合物蒸發,形成由不揮發性有機化合物構成的涂膜的涂膜形成方法;含有該溶劑組合物的熱傳遞介質以及使用了該熱傳遞介質的熱循環系統。
技術領域
本發明涉及對各種有機物的溶解性優良、清洗性優良且不對地球環境產生負面影響的穩定性優良并能抑制金屬的腐蝕的溶劑組合物。具體而言,本發明的溶劑組合物可用于清洗用溶劑和稀釋涂布溶劑、熱傳遞介質等廣范圍的用途。
背景技術
IC、電子部件、精密機械部件、光學部件等的制造中,在制造工序、組裝工序、最終精制工序等中,用清洗用溶劑清洗部件,將附著于該部件的焊劑、加工油、蠟、脫模劑、灰塵等除去。另外,作為具有含有潤滑劑等各種有機化學物質的涂膜的物品的制造方法,已知有例如配制該有機化學物質溶解在稀釋涂布溶劑中而得的溶液、將該溶液涂布于被涂布物上后使稀釋涂布溶劑蒸發來形成涂膜的方法。要求稀釋涂布溶劑能夠充分溶解有機化學物質且具有充分的干燥性。
作為這種用途中使用的溶劑,從具有不燃性且毒性小、穩定性優良、不侵蝕金屬、塑料、彈性體等基材且化學穩定性和熱穩定性優良的角度考慮,使用了含有1,1,2-三氯-1,2,2-三氟乙烷等氯氟烴類(以下記為“CFC類”)、2,2-二氯-1,1,1-三氟乙烷、1,1-二氯-1-氟乙烷、3,3-二氯-1,1,1,2,2-五氟丙烷、1,3-二氯-1,1,2,2,3-五氟丙烷等氫氯氟烴類(以下記為“HCFC類”)等的氟類溶劑等。
但是,CFC類和HCFC類的化學性質極為穩定,因此氣化后在對流層內的壽命長,擴散并達到平流層。因此,存在到達平流層的CFC類和HCFC類被紫外線分解、產生氯自由基而破壞臭氧層的問題。
另一方面,作為不具有氯原子且不對臭氧層產生負面影響的溶劑,已知有全氟烴類(以下記為“PFC類”)。另外,作為CFC類和HCFC類的替代溶劑,也開發了氫氟烴類(以下記為“HFC類”)、氫氟醚類(以下記為“HFE類”)等。但是,HFC類和PFC類的溫室效應潛能值高,因此是京都議定書的限制對象物質。
作為替代HFC類、HFE類、PFC類的溶劑的新溶劑,提出了在碳原子-碳原子間具有雙鍵的氟代烯烴。雖然這些氟代烯烴具有容易分解而在大氣中的壽命短、臭氧消耗潛能值(日文:オゾン破壊係數)和溫室效應潛能值低而對地球環境的影響小的優良性質,但是另一方面,由于容易分解而穩定性差,作為清洗用溶劑和稀釋涂布溶劑使用的情況下,具有在使用中分解而導致酸性化的問題。
對此,在專利文獻1、2中,公開了向含有1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯且在碳原子-碳原子間具有雙鍵的各種各樣的氟代烯烴中添加作為潤滑劑、穩定劑、金屬鈍化劑、腐蝕抑制劑、火焰抑制劑以及調節組合物的特定性質的其他化合物和/或成分的追加成分的技術。
另外,在專利文獻3的實施例中,記載了如果在氣相下使1-氯-2,2,3,3-四氟丙烷與氟化氫反應,則在生成1,1,2,2,3-五氟丙烷的同時會生成微量的作為副產物的1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯。
但是,專利文獻1~3中并無關于通過向1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯中添加微量的1-氯-2,2,3,3-丙烷來使1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯穩定化的技術的記載。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利特表2013-504658號公報
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于AGC株式會社,未經AGC株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011204778.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種水下清洗機器人
- 下一篇:一種應用數學教學管理系統





