[發明專利]UV光刻膠、UV光刻膠制備方法及透鏡陣列制備方法在審

申請號：	202011203670.5	申請日：	2020-11-02
公開（公告）號：	CN112346299A	公開（公告）日：	2021-02-09
發明（設計）人：	廖立瑜;游伴奏;董超;宋玉;俞朝暉	申請（專利權）人：	深圳市裕同包裝科技股份有限公司
主分類號：	G03F7/004	分類號：	G03F7/004;G03F7/027;G02B3/00;G03F7/00
代理公司：	深圳市精英專利事務所 44242	代理人：	馮筠
地址：	518000 廣東省深圳市寶***	國省代碼：	廣東;44
權利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關鍵詞：	uv 光刻制備方法透鏡陣列
鉆瓜網技術展會專利詞庫專利權人專利榜在售專利公布日期熱門專利

【說明書】：

本發明公開了一種UV光刻膠、UV光刻膠制備方法及透鏡陣列制備方法，UV光刻膠包括以下組分：丙烯酸樹脂單體：40?50重量份；烯酸樹脂低聚物：40?43重量份；第一光引發劑：3?5重量份；第二光引發劑：1?2重量份；添加劑：0.01?1％重量份。本發明的UV光刻膠具有良好的物理、化學及光學性能，非常適合于以PET膜為承印基材。通過UV光刻膠制備方法可高效制得具有良好性能的UV光刻膠，非常適合于以PET膜為承印基材。通過透鏡陣列制備方法獲得的透鏡陣列具有滿足期望的均勻性、幾何形貌、光學特性及耐磨性。

技術領域

本發明涉及光刻膠技術領域，更具體地說是一種UV光刻膠、UV光刻膠制備方法及透鏡陣列制備方法。

背景技術

在眾多的微透鏡陣列的制造方法中，微納壓印作為一種典型的微納加工技術，盡管只能通過改變壓印模具來改變微透鏡的幾何尺寸，卻可在低溫低壓環境下于PET等柔性基材上實現大面積的、大規模的微透鏡陣列的穩定制造，因此被視為復制微納結構和微透鏡陣列的常用方法。制備原理具體為：UV光刻膠流入成膜機的精密光學模具表面的微結構凹槽中，通過前壓輪擠壓多余樹脂排出凹槽，并使模具表面與PET膜緊密貼合，通過UV燈使凹槽中的樹脂固化在PET膜表面，經過后壓輪后與模具剝離，成型的微透鏡陣列層牢牢附著在PET膜的表面，形成微透鏡3D光學膜。

作為制備微透鏡陣列的重要材料-UV光刻膠，通常情況下，是由感光樹脂、表面活性劑、光敏劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體，應具有良好的分辨率、對比度、敏感度、黏度、黏附性和表面張力，以確保制備的微透鏡陣列具有滿足期望的均勻性、幾何形貌、光學特性及耐磨性。然而，市場上現有的UV光刻膠的承印基材大多為硅片、玻璃、PDMS等，應用于模擬半導體、發光二極管、微機電系統、太陽能光伏、微流道與生物芯片、光電子/光子器件、封裝等領域，其物理、化學及光學性能不太適合應用于PET基材上以進行大規模的微透鏡陣列的制造。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種UV光刻膠、UV光刻膠制備方法及透鏡陣列制備方法。

為實現上述目的，本發明采用以下技術方案：一種UV光刻膠，包括以下組分：

丙烯酸樹脂單體：40-50重量份；

烯酸樹脂低聚物：40-43重量份；

第一光引發劑：3-5重量份；

第二光引發劑：1-2重量份；

添加劑：0.01-1％重量份。

其進一步技術方案為：所述丙烯酸樹脂單體為三羥甲基丙烷三丙烯酸酯。

其進一步技術方案為：所述丙烯酸樹脂低聚物為1，6-己二醇二丙烯酸酯。

其進一步技術方案為：所述第一光引發劑為2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮。

其進一步技術方案為：所述第二光引發劑為1-羥基環己基苯基甲酮。