[發(fā)明專利]減反射制品以及包含其的顯示器裝置

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• 申請日: 2016-09-13
• 公開（公告）號: CN112213802A
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設計）人: S·D·哈特;K·W·科齊三世;C·A·保爾森
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: G02B1/115
• 分類號: G02B1/115;G02B1/14;G09F9/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 項丹

1.一種制品，所述制品包括：

具有主表面的基材；以及

光學涂層，其布置在所述主表面上并且形成減反射表面，所述光學涂層包括減反射涂層和耐劃痕層，

其中，所述減反射涂層包括多層，其中，所述多層包括：第一低折射率層和第二高折射率層，以及其中，所述減反射涂層包括至少一個周期，使得所述第一低折射率層與所述第二高折射率層是交替的；

其中，所述減反射涂層包括第一部分和第二部分，其中，所述耐劃痕層布置在所述第一部分與第二部分之間；

其中，所述耐劃痕層是最厚的第二高折射率層；

通過布氏壓痕計硬度測試，在所述減反射表面上測得，所述制品沿著大于或等于約100nm的壓痕深度展現(xiàn)出大于或等于約8GPa的最大硬度；

在所述減反射表面上測得，所述制品在約為400-800nm范圍的光波長區(qū)域上展現(xiàn)出小于或等于約8％的單側平均反光率；以及

所述制品在約為400-800nm范圍的光波長區(qū)域上展現(xiàn)出大于或等于約90％的平均透光率。

2.如權利要求1所述的制品，其特征在于，所述第一低折射率層包含二氧化硅，所述第二高折射率層包含氮化物或氧氮化物材料。

3.如權利要求1或2所述的制品，其特征在于，所述減反射涂層的物理厚度約為10-300nm。

4.如權利要求1或2所述的制品，其特征在于，所述耐劃痕層的物理厚度約為100nm-5um。

5.如權利要求1或2所述的制品，其特征在于，各個第二高折射率層的總物理厚度占所述光學涂層的物理厚度的約30％或更大。

6.如權利要求1或2所述的制品，其特征在于，布置在所述耐劃痕層上的一層或多層的總物理厚度為小于或等于約150nm。

7.如權利要求1或2所述的制品，其特征在于，以下至少一種：

根據國際照明委員會，在法向入射條件下，在(L*,a*,b*)色度體系中，制品的透射色坐標展現(xiàn)出：在所述減反射表面測得的相對于基準點小于約2的基準點色移，所述基準點包括以下至少一種：色坐標(a*＝0,b*＝0)以及所述基材的透射色坐標；以及

根據國際照明委員會，在法向入射條件下，在(L*,a*,b*)色度體系中，制品反射色坐標展現(xiàn)出：在所述減反射表面測得的相對于基準點小于約5的基準點色移，所述基準點包括以下至少一種：色坐標(a*＝0,b*＝0)、色坐標(a*＝-2,b*＝-2)以及所述基材的反射色坐標，

其中，當所述基準點是色坐標(a*＝0,b*＝0)時，通過√((a*_制品)²+(b*_制品)²)定義色移，

其中，當所述基準點是色坐標(a*＝-2,b*＝-2)時，通過√((a*_制品+2)²+(b*_制品+2)²)定義色移，以及

其中，當所述基準點是所述基材的色坐標時，通過√((a*_制品-a*_基材)²+(b*_制品-b*_基材)²)定義色移。