[發(fā)明專利]基于超透鏡的激光器和硅光芯片耦合結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011201584.0 | 申請(qǐng)日： | 2020-11-02 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112305689A | 公開（公告）日： | 2021-02-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 周林杰;王寧寧;陸梁軍;陳建平;劉嬌 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海交大平湖智能光電研究院;上海交通大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G02B6/42 | 分類號(hào)： | G02B6/42 |
| 代理公司： | 上海恒慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 張寧展 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉*** | 國(guó)省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基于 透鏡 激光器 芯片 耦合 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種基于超透鏡的激光器和硅光芯片耦合結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括激光器(101)、隔離器(201)和硅光芯片(301)，所述的隔離器(201)的兩側(cè)表面分別集成準(zhǔn)直超透鏡(202)和耦合超透鏡(203)，所述的準(zhǔn)直超透鏡(202)、所述耦合超透鏡(203)和所述隔離器(201)共光軸，沿所述的激光器(101)的激光輸出方向依次是所述的準(zhǔn)直超透鏡(202)、隔離器(201)、耦合超透鏡(203)和硅光芯片(301)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超透鏡的激光器和硅光芯片耦合結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述準(zhǔn)直超透鏡(202)和耦合超透鏡(203)為通過硅沉積和硅刻蝕工藝直接在隔離器(201)兩側(cè)表面形成的亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超透鏡的激光器和硅光芯片耦合結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述準(zhǔn)直超透鏡(202)和耦合超透鏡(203)的微納結(jié)構(gòu)，分別與激光器波導(dǎo)和硅光波導(dǎo)數(shù)值孔徑相匹配，以最大化激光和硅光波導(dǎo)的耦合效率。
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