[發明專利]一種基于光場成像的多聚焦圖像融合方法

有效

• 申請號: 202011201016.0
• 申請日: 2020-11-02
• 公開（公告）號: CN112132771B
• 公開（公告）日: 2022-05-27
• 發明（設計）人: 閆斌斌;張通;江奕蕾;劉雙喜;龐明慧
• 申請（專利權）人: 西北工業大學
• 主分類號: G06T5/50
• 分類號: G06T5/50;G06T7/11
• 代理公司: 西安凱多思知識產權代理事務所(普通合伙) 61290
• 代理人: 劉新瓊

1.一種基于光場成像的多聚焦圖像融合方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：對光場相機拍攝圖像提取子孔徑圖像，子孔徑圖像中有N個目標物；

步驟2：設置子孔徑圖像中每個目標物的重聚焦系數，生成N幅聚焦深度不同的重聚焦圖像，每幅重聚焦圖像聚焦一個目標物；

步驟3：將子孔徑圖像按照目標物的位置分割成N個部分，每部分包含一個目標物；再按照和子孔徑圖像相同的分割方法將N幅重聚焦圖像進行分割；對每一幅重聚焦圖像，采用清晰度評價Tenengrad函數得到每個分割部分的Tenengrad函數值；在每一幅重聚焦圖像中，將Tenengrad函數值最高的部分權值記為1，其余部分權值記為0；

步驟4：根據Tenengrad函數值建立子孔徑圖像的mask掩模圖像，采用子孔徑圖像的mask掩模圖像建立每幅重聚焦圖像的高斯金字塔；再由高斯金字塔得到每幅重聚焦圖像的拉普拉斯金字塔；高斯金字塔和拉普拉斯金字塔均有M層，記兩個金字塔的最底層為第1層，最高層為第M層；

步驟5：用高斯金字塔的第i層減去第i-1層經過上采樣和高斯卷積處理后的圖像，得到第i-1層的差分圖像，再將高斯金字塔的第1層進行上采樣和高斯卷積后分別與第i-1層的差分圖像相加得到第i-1層的重構圖像，從而得到每一層新的高斯金字塔圖像，把新的高斯金字塔圖像所有層疊加，得到重聚焦圖像重構圖像；

步驟6：建立重聚焦圖像重構圖像的mask掩模圖像；然后建立拉普拉斯金字塔每一層的差分圖像，將每一層的差分圖像中對應重聚焦圖像中權值為1的部分保留，權值為0的部分去除，再分別與重聚焦圖像重構圖像的mask掩模圖像疊加；得到拉普拉斯金字塔每一層的掩模差分圖像；

步驟7：對拉普拉斯金字塔的第M層進行上采樣和高斯卷積后，分別與拉普拉斯金字塔每一層的掩模差分圖像相加，得到M個結果圖像，再將這M個結果圖像相加，得到最終的多聚焦圖像融合結果。