[發(fā)明專利]一種高精度叉指電極、其制備方法和應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011200412.1
• 申請(qǐng)日: 2020-12-25
• 公開（公告）號(hào): CN112285182A
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 奚亞男;胡淑錦
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州鈺芯智能科技研究院有限公司
• 主分類號(hào): G01N27/327
• 分類號(hào): G01N27/327;G01N27/36
• 代理公司: 廣州幫專高智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44674
• 代理人: 顏德昊

1.一種高精度叉指電極，其特征在于，包括絕緣基體、導(dǎo)電內(nèi)層和反應(yīng)層，其中所述絕緣基體表面設(shè)有所述導(dǎo)電內(nèi)層，所述導(dǎo)電內(nèi)層外表面設(shè)有所述反應(yīng)層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度叉指電極，其特征在于，所述絕緣基體為硅基、陶瓷、玻璃等非金屬材料中的任一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高精度叉指電極，其特征在于，所述絕緣基材優(yōu)選硅基，其表面修飾二氧化硅保護(hù)層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度叉指電極，其特征在于，所述導(dǎo)電內(nèi)層的厚度為20～50nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高精度叉指電極，其特征在于，所述導(dǎo)電內(nèi)層為Cr、Ti、Ni中的一種形成的金屬或其中至少兩種形成的合金構(gòu)成。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度叉指電極，其特征在于，所述反應(yīng)層的厚度為100nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高精度叉指電極，其特征在于，所述反應(yīng)層為Au、Ag、Pt中的一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度叉指電極，其特征在于，所述叉指電極的線寬線距為1～40μm。

9.一種制備如權(quán)利要求1所述的高精度叉指電極的方法，其特征在于，包括如下工序：在所述絕緣基體上依次磁控濺射所述導(dǎo)電內(nèi)層和所述反應(yīng)層，機(jī)械旋涂光刻膠；顯影曝光形成圖形線路，蝕刻底層形成電極線路；去膠膜后即得所述高精度叉指電極；

其中磁控濺射所述導(dǎo)電內(nèi)層方法具體為：濺射靶材為金屬，靶材直徑為15～25mm，厚度為2～5mm；靶材與絕緣基體的距離為10～15cm；所述磁控濺射功率為180～200W，濺射氣壓為1～3Pa，濺射時(shí)間為5～15min；

其中磁控濺射所述反應(yīng)層方法具體為：濺射靶材為金屬，靶材直徑為20～30mm，厚度為2～5mm；靶材與絕緣基體的距離為10～15cm；所述磁控濺射功率為200～250W，濺射氣壓為3～5Pa，濺射時(shí)間為15～25min。

10.一種如權(quán)利要求1所述的高精度叉指電極的應(yīng)用，其特征在于，所述叉指電極可用于生物分子檢測(cè)，具體可用于制備電化學(xué)免疫傳感器。