[發(fā)明專利]一種復合集流體、極片、電芯及二次電池

在審

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• 申請日: 2020-10-30
• 公開（公告）號: CN112151810A
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發(fā)明（設計）人: 趙倩;龐文杰
• 申請（專利權）人: 廈門海辰新材料科技有限公司
• 主分類號: H01M4/70
• 分類號: H01M4/70;H01M4/66
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 王麗莎

1.一種復合集流體，其特征在于，包括：

高分子支撐層，所述高分子支撐層的厚度D1為2μm≤D1≤30μm，所述高分子支撐層的表面具有多個納米凸起，所述納米凸起凸出所述高分子支撐層表面的高度在10～500nm范圍內；

導電功能層，所述導電功能層的厚度D2為D2≥0.2μm。

2.根據權利要求1所述的復合集流體，其特征在于，所述復合集流體為負極集流體，所述納米凸起的凸出所述高分子支撐層表面的高度在300～500nm范圍內；

或，所述復合集流體為正極集流體，所述納米凸起的凸出所述高分子支撐層表面的高度在10～100nm范圍內。

3.根據權利要求1所述的復合集流體，其特征在于，所述納米凸起的總面積占所述高分子支撐層的表面積的0.01％-10％。

4.根據權利要求3所述的復合集流體，其特征在于，所述納米凸起的總面積占所述高分子支撐層的表面積的0.1％-1％。

5.根據權利要求3所述的復合集流體，其特征在于，所述高分子支撐層的表面上每1mm²有1-1000個所述納米凸起。

6.根據權利要求5所述的復合集流體，其特征在于，所述高分子支撐層的表面上每1mm²有100-500個所述納米凸起。

7.根據權利要求1-6任一項所述的復合集流體，其特征在于，所述高分子支撐層具有沿厚度方向的第一表面和第二表面，所述第一表面上具有多個凸出第一表面的多個第一納米凸起，所述第二表面上具有多個凸出所述第二表面的多個第二納米凸起，所述第一納米凸起和所述第二納米凸起的凸出所述高分子支撐層表面的高度在10～500nm范圍內所述導電功能層包括第一導電功能層和第二導電功能層，所述第一導電功能層設置于所述第一表面，所述第二導電功能層設置于所述第二表面。

8.一種極片，其特征在于，包括權利要求1-7任一項所述的復合集流體。

9.一種電芯，其特征在于，包括權利要求8所述的極片。

10.一種二次電池，其特征在于，包括權利要求9所述的電芯。