[發明專利]新型可記憶光刻機系統

在審

• 申請號: 202011199128.7
• 申請日: 2020-11-01
• 公開（公告）號: CN112198770A
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 楊清華
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種新的可記憶性光刻芯片生產設備設計方案。其特征在于，本發明的上述技術目的通過以下技術方案來實現：新的光刻系統包括光源子系統、光源移動控制子系統、光刻路徑記憶子系統、光刻路徑顯示系統、晶圓和刻制光線校準子系統、深度學習子系統、綜合控制系統和網絡聯接系統8大組成部分。

2.一種不依賴于EDA電路輔助設計軟件的新的可記憶性型的芯片生產方法。其特征在于，本發明提供了一種新型的芯片電路光刻方法，新型光刻系統不需要通過EDA輸入已經完成的電路設計圖紙，可以通過記憶合格芯片的光刻路徑來生產新的芯片，或者組合已經存儲的光刻路徑的電路功能來生產功能更強大的新芯片,系統具備強大的自主學習能力，芯片的制作將具有更強的靈活性和創造性。

3.一種基于深度學習和電路組合的模塊化芯片設計和生產方法。

4.一種基于光刻路徑記憶的重復生產高質量芯片的方法。