[發明專利]繞射波的成像方法、裝置、電子設備及存儲介質

在審

• 申請號: 202011193675.4
• 申請日: 2020-10-30
• 公開（公告）號: CN112415591A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 仲旭艷;高江濤;溫鐵民;于德華;李卿
• 申請（專利權）人: 中國石油天然氣集團有限公司;中國石油集團東方地球物理勘探有限責任公司
• 主分類號: G01V1/30
• 分類號: G01V1/30;G01V1/34
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 單曉雙;董驍毅

1.一種繞射波的成像方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取地震資料，并對所述地震資料進行預處理，所述地震資料包括：反射波和繞射波；

根據所述預處理后的地震資料生成共中心點CMP道集；

對預處理后的地震資料進行反射波速度分析操作，以得到反射波疊加速度和疊前時間偏移速度場；

通過所述反射波疊加速度對所述CMP道集進行動校正處理、并通過分選方位角和炮檢距方式生成炮檢距矢量片OVT道集；

對所述OVT道集進行頻率波數域濾波處理，以得到繞射波，并對所述繞射波進行疊前深度偏移處理，以生成繞射波成像剖面。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，通過所述反射波疊加速度對所述CMP道集進行動校正處理、并通過分選方位角和炮檢距方式生成炮檢距矢量片OVT道集包括：

通過所述反射波疊加速度對所述CMP道集進行動校正處理；

對動校正處理后的CMP道集通過分選方位角和炮檢距方式生成多個炮檢距矢量片OVT，以生成所述OVT道集。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，對所述OVT道集進行頻率波數域濾波處理，以得到繞射波包括：

對所述OVT道集進行頻率波數域濾波處理，以對所述反射波進行壓制處理，保留所述繞射波。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，對所述繞射波進行疊前深度偏移處理，以生成繞射波成像剖面包括：

通過所述反射波疊加速度對所述繞射波進行反動校正處理；

根據所述疊前時間偏移速度場對反動校正處理后的繞射波進行疊前深度偏移處理，以生成繞射波成像剖面。

5.一種繞射波的成像裝置，其特征在于，所述裝置包括：

數據獲取單元，用于獲取地震資料，所述地震資料包括：反射波和繞射波；

預處理單元，用于對所述地震資料進行預處理；

CMP道集生成單元，用于根據所述預處理后的地震資料生成共中心點CMP道集；

反射波速度分析單元，用于對預處理后的地震資料進行反射波速度分析操作，以得到反射波疊加速度和疊前時間偏移速度場；

OVT道集生成單元，用于通過所述反射波疊加速度對所述CMP道集進行動校正處理、并通過分選方位角和炮檢距方式生成OVT道集；

繞射波獲得單元，用于對所述OVT道集進行頻率波數域濾波處理，以得到繞射波；

繞射波成像單元，用于對所述繞射波進行疊前深度偏移處理，以生成繞射波成像剖面。

6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述OVT道集生成單元包括：

動校正處理模塊，用于通過所述反射波疊加速度對所述CMP道集進行動校正處理；

OVT道集生成模塊，用于對動校正處理后的CMP道集通過分選方位角和炮檢距方式生成多個炮檢距矢量片OVT，以生成所述OVT道集。

7.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述繞射波獲得單元具體用于：

對所述OVT道集進行頻率波數域濾波處理，以對所述反射波進行壓制處理，保留所述繞射波。

8.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述繞射波成像單元包括：

反動校正處理模塊，用于通過所述反射波疊加速度對所述繞射波進行反動校正處理；

繞射波成像模塊，用于根據所述疊前時間偏移速度場對反動校正處理后的繞射波進行疊前深度偏移處理，以生成繞射波成像剖面。

9.一種電子設備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器執行所述程序時實現權利要求1至4中任一項所述方法的步驟。

10.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，該計算機程序被處理器執行時實現權利要求1至4中任一項所述方法的步驟。