[發明專利]一種基于淺層疊加建模的橫波靜校正方法及裝置

在審

• 申請號: 202011192287.4
• 申請日: 2020-10-30
• 公開（公告）號: CN112394412A
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發明（設計）人: 王海立;寧紅曉;于寶華;馬立新;栗美華;王紅博
• 申請（專利權）人: 中國石油天然氣集團有限公司;中國石油集團東方地球物理勘探有限責任公司
• 主分類號: G01V1/36
• 分類號: G01V1/36
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 單曉雙;董驍毅

1.一種基于淺層疊加建模的橫波靜校正方法，其特征在于，包括：

在橫波地震疊加剖面上選取淺層疊加反射同相軸并根據所述淺層疊加反射同相軸獲取若干個淺層疊加速度控制點；

讀取所述淺層疊加速度控制點的基本數據，所述基本數據包括：疊加速度、反射雙程旅行時；

根據所述基本數據計算橫波淺層控制點的表層平均速度、厚度和最高速度；

通過所述橫波淺層控制點構建橫波模型并計算橫波的靜校正量。

2.根據權利要求1所述的基于淺層疊加建模的橫波靜校正方法，其特征在于，所述在橫波地震疊加剖面上選取淺層疊加反射同相軸并根據所述淺層疊加反射同相軸獲取若干個淺層疊加速度控制點，包括：

在橫波地震疊加剖面上選取可連續追蹤的淺層疊加反射同相軸；

對所述淺層疊加反射同相軸按照預設的CMP間隔選取淺層疊加速度控制點。

3.根據權利要求1所述的基于淺層疊加建模的橫波靜校正方法，其特征在于，所述根據所述基本數據計算橫波淺層控制點的表層平均速度、厚度和最高速度，包括：

根據所述疊加速度獲得所述表層平均速度和所述最高速度；

根據所述疊加速度和所述反射雙程旅行時計算獲得所述厚度。

4.根據權利要求1所述的基于淺層疊加建模的橫波靜校正方法，其特征在于，所述通過所述橫波淺層控制點構建橫波模型并計算橫波的靜校正量，包括：

對所述橫波淺層控制點進行插值處理；

根據插值處理后的所有橫波淺層控制點構建橫波模型；

利用所述橫波模型計算橫波的靜校正量。

5.一種基于淺層疊加建模的橫波靜校正裝置，其特征在于，包括：

淺層疊加速度控制點獲取單元，用于在橫波地震疊加剖面上選取淺層疊加反射同相軸并根據所述淺層疊加反射同相軸獲取若干個淺層疊加速度控制點；

基本數據讀取單元，用于讀取所述淺層疊加速度控制點的基本數據，所述基本數據包括：疊加速度、反射雙程旅行時；

計算單元，用于根據所述基本數據計算橫波淺層控制點的表層平均速度、厚度和最高速度；

模型構建及靜校正量計算單元，用于通過所述橫波淺層控制點構建橫波模型并計算橫波的靜校正量。

6.根據權利要求5所述的基于淺層疊加建模的橫波靜校正裝置，其特征在于，所述淺層疊加速度控制點獲取單元包括：

淺層疊加反射同相軸選取模塊，用于在橫波地震疊加剖面上選取可連續追蹤的淺層疊加反射同相軸；

淺層疊加速度控制點選取模塊，用于對所述淺層疊加反射同相軸按照預設的CMP間隔選取淺層疊加速度控制點。

7.根據權利要求5所述的基于淺層疊加建模的橫波靜校正裝置，其特征在于，所述計算單元包括：

第一計算模塊，用于根據所述疊加速度獲得所述表層平均速度和所述最高速度；

第二計算模塊，用于根據所述疊加速度和所述反射雙程旅行時計算獲得所述厚度。

8.根據權利要求5所述的基于淺層疊加建模的橫波靜校正裝置，其特征在于，所述模型構建及靜校正量計算單元包括：

插值處理模塊，用于對所述橫波淺層控制點進行插值處理；

模型構建模塊，用于根據插值處理后的所有橫波淺層控制點構建橫波模型；

靜校正量計算模塊，用于利用所述橫波模型計算橫波的靜校正量。

9.一種電子設備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器執行所述程序時實現權利要求1至4中任意一項所述基于淺層疊加建模的橫波靜校正方法。

10.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，該計算機程序被處理器執行時實現權利要求1至4中任一項所述基于淺層疊加建模的橫波靜校正方法。