[發(fā)明專利]一種晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011187557.2
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112304703B
• 公開（公告）日: 2021-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐小明
• 申請（專利權(quán)）人: 長江存儲科技有限責(zé)任公司
• 主分類號: G01N1/14
• 分類號: G01N1/14;H01L21/66
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 李路遙;張穎玲

1.一種晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，所述裝置包括：取樣噴嘴和旋轉(zhuǎn)臺；其中，

所述旋轉(zhuǎn)臺用于承載晶圓，并帶動所述晶圓旋轉(zhuǎn)；所述旋轉(zhuǎn)臺用于承載所述晶圓的表面為承載面；

所述取樣噴嘴在所述承載面上與所述旋轉(zhuǎn)臺相對設(shè)置，所述取樣噴嘴朝向所述旋轉(zhuǎn)臺的底表面呈長條形，所述長條形的長邊沿第一方向延伸；所述第一方向為所述旋轉(zhuǎn)臺中心到所述旋轉(zhuǎn)臺邊緣的方向；

所述取樣噴嘴包括同軸設(shè)置的外部噴嘴架和內(nèi)部掃描噴嘴；

所述內(nèi)部掃描噴嘴用于通過所述底表面噴灑掃描液到所述晶圓上，并回收所述晶圓上的掃描液；

所述外部噴嘴架和內(nèi)部掃描噴嘴之間構(gòu)成氣體腔室，以將所述掃描液阻隔在所述取樣噴嘴內(nèi)；

所述氣體腔室沿第二方向分隔為互不連通的前端氣體腔室和后端氣體腔室，所述第二方向為所述底表面上垂直于所述第一方向的方向。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，

所述取樣噴嘴沿第一方向上的長度與所述取樣噴嘴沿第二方向上的長度的比值大于等于8，所述第二方向為所述底表面上垂直于所述第一方向的方向。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，

所述取樣噴嘴沿第一方向上的長度為4cm-6cm；

所述取樣噴嘴沿第二方向上的長度為0.3cm-0.6cm，

所述第二方向為所述底表面上垂直于所述第一方向的方向。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，所述裝置還包括：前端氣體管道、后端氣體管道和掃描液管道；其中，

所述前端氣體管道與所述前端氣體腔室連接，所述后端氣體管道與所述后端氣體腔室連接；

所述掃描液管道與所述內(nèi)部掃描噴嘴連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，所述裝置還包括：第一加壓組件和第二加壓組件；其中，

所述第一加壓組件與所述前端氣體腔室連接，所述第一加壓組件用于獨立控制所述前端氣體腔室的壓力；

所述第二加壓組件與所述后端氣體腔室連接，所述第二加壓組件用于獨立控制所述后端氣體腔室的壓力。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，

所述內(nèi)部掃描噴嘴的下緣與所述旋轉(zhuǎn)臺之間的距離小于所述外部噴嘴架的下緣與所述旋轉(zhuǎn)臺之間的距離。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，

所述外部噴嘴架的下緣與所述旋轉(zhuǎn)臺之間的距離可調(diào)節(jié)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7任一項所述的晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，所述裝置還包括：調(diào)節(jié)螺桿；

所述調(diào)節(jié)螺桿與所述內(nèi)部掃描噴嘴活動連接，與所述外部噴嘴架固定連接；

所述調(diào)節(jié)螺桿用于調(diào)節(jié)所述外部噴嘴架與所述旋轉(zhuǎn)臺之間的距離。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，

所述調(diào)節(jié)螺桿包括第一調(diào)節(jié)螺桿和第二調(diào)節(jié)螺桿；所述第一調(diào)節(jié)螺桿和所述第二調(diào)節(jié)螺桿用于共同調(diào)節(jié)所述外部噴嘴架與所述旋轉(zhuǎn)臺之間的距離；

所述第一調(diào)節(jié)螺桿設(shè)置在所述取樣噴嘴上靠近所述旋轉(zhuǎn)臺中心的一側(cè)，所述第二調(diào)節(jié)螺桿設(shè)置在所述取樣噴嘴上靠近所述旋轉(zhuǎn)臺邊緣的一側(cè)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～7任一項所述的晶圓表面雜質(zhì)取樣裝置，其特征在于，

所述內(nèi)部掃描噴嘴包括拱形部和棱臺部；所述拱形部的下緣與所述棱臺部的上緣連接；

所述棱臺部的側(cè)壁從所述棱臺部的上緣到所述棱臺部的下緣向靠近所述取樣噴嘴軸心的方向傾斜。