[發明專利]真空鍍膜設備的控制方法、控制系統和真空鍍膜設備有效
| 申請號: | 202011186465.2 | 申請日: | 2020-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN112458439B | 公開(公告)日: | 2023-03-10 |
| 發明(設計)人: | 左國軍;梁建軍;夏傲雪 | 申請(專利權)人: | 常州捷佳創精密機械有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/52 | 分類號: | C23C16/52;C23C14/54;C23C14/52 |
| 代理公司: | 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;王淑梅 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空鍍膜 設備 控制 方法 控制系統 | ||
本發明提出了一種真空鍍膜設備的控制方法、控制系統和真空鍍膜設備。一種真空鍍膜設備的控制方法包括:基于真空鍍膜設備上電的情況下,檢測轉換腔內的第一壓強值,根據第一壓強值確定基準大氣壓強值;響應于預設控制指令,檢測轉換腔內的第二壓強值;根據第二壓強值和基準大氣壓強值,控制轉換腔開腔,并檢測轉換腔內的第三壓強值;根據第三壓強值更新基準大氣壓強值。通過本發明提供的真空鍍膜設備的控制方法,能夠實時跟蹤當前(每時每刻)的大氣壓變化,進而自動校準基準大氣壓開腔安全范圍,有效解決了大氣壓誤差變化大的影響,從而有效避免了產生碎片的情況,繼而有效保證了產能。
技術領域
本發明涉及工控技術領域,具體而言,涉及一種真空鍍膜設備的控制方法,一種真空鍍膜設備的控制系統,一種真空鍍膜設備,一種計算機可讀存儲介質。
背景技術
在高效太陽能異質結電池真空鍍膜設備的生產中,在過渡腔(大氣/真空轉換腔)室中需要為鍍膜工藝前后進行預真空/大氣準備。過渡腔室中檢測大氣/真空壓強值所采用的傳感器,當需求開腔出料時,該傳感器會將檢測到的真空壓強值與基準(一個標準大氣壓值101.325Kpa)作對比,滿足一定范圍時,允許開腔出料。
以上現有技術,存在一些不足,主要體現在當需求開腔出料時,該傳感器檢測到的當前時刻的大氣壓值,與基準大氣壓是有偏差的,尤其在雨季或四季交替時,這種偏差最大時可以達到-3%~-9%的誤差,也就是說一個大氣壓101.325Kpa,而誤差值最大可導致一個大氣壓僅90Kpa左右,進而造成了開腔基準偏差較大,這種較大的偏差,會導致開腔震動進而導致產生碎片率。
發明內容
本發明旨在至少解決現有技術或相關技術中存在的技術問題之一。
為此,本發明的一個方面在于提出了一種真空鍍膜設備的控制方法。
本發明的另一個方面在于提出了一種真空鍍膜設備的控制系統。
本發明的再一個方面在于提出了一種真空鍍膜設備。
本發明的又一個方面在于提出了一種計算機可讀存儲介質。
有鑒于此,根據本發明的一個方面,提出了一種真空鍍膜設備的控制方法,真空鍍膜設備包括轉換腔,真空鍍膜設備的控制方法包括:基于真空鍍膜設備上電的情況下,檢測轉換腔內的第一壓強值,根據第一壓強值確定基準大氣壓強值;響應于預設控制指令,檢測轉換腔內的第二壓強值;根據第二壓強值和基準大氣壓強值,控制轉換腔開腔,并檢測轉換腔內的第三壓強值;根據第三壓強值更新基準大氣壓強值。
本發明提供的真空鍍膜設備的控制方法,真空鍍膜設備包括轉換腔,轉換腔為真空/大氣轉換腔,主要為鍍膜工藝前后進行預真空/大氣準備。當真空鍍膜設備第一次上電時,或在每個生產周期(如每天)第一次上電時,利用傳感器檢測轉換腔內的第一壓強值,根據第一壓強值確定基準大氣壓強值。由于真空鍍膜設備在每天第一次開機時,轉換腔通常是開腔狀態,故第一壓強值通常為實時大氣壓強值。真空鍍膜設備進入生產,當控制系統接收到預設控制指令時,響應于預設控制指令,令傳感器檢測轉換腔內的第二壓強值。其中,預設控制指令為轉換腔需要開腔的指令,例如,當轉換腔內的產品需要出料,或產品需要進入轉換腔內生產,或產品需要在不同轉換腔間傳輸時,都需要開腔。轉換腔開腔就會存在內外壓差過大的情況,為了避免在內外壓差過大的情況下開啟轉換腔,根據第二壓強值和基準大氣壓強值來控制轉換腔開腔,使轉換腔在第二壓強值與基準大氣壓強值之間的偏差滿足預設要求時開腔。開腔后,利用傳感器檢測轉換腔內的第三壓強值,此時的第三壓強值為實時大氣壓強值,根據第三壓強值更新基準大氣壓強值,作為下一次開腔的基準,以此類推,后續每一次開腔后,都采集轉換腔內的第三壓強值,即實時大氣壓強值,并以此校準基準大氣壓強值。通過本發明提供的真空鍍膜設備的控制方法,能夠實時跟蹤當前(每時每刻)的大氣壓變化,進而自動校準基準大氣壓開腔安全范圍,有效解決了大氣壓誤差變化大的影響,從而有效避免了產生碎片的情況,繼而有效保證了產能。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





