[發(fā)明專利]蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011186149.5
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112301314B
• 公開（公告）日: 2023-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉全寶;王寶;毋炳輝;史治化;高松;邱林林
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/12;H10K71/16
• 代理公司: 上海晨皓知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

1.一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括：

坩堝本體，用于容納蒸鍍材料；

過濾裝置，設(shè)置在所述坩堝本體內(nèi)，所述過濾裝置包括中心部和圍繞所述中心部的周邊部；所述坩堝本體包括用于承載所述蒸鍍材料的底壁，所述周邊部朝遠(yuǎn)離所述底壁的方向傾斜設(shè)置；

所述中心部用于阻擋所述蒸鍍材料中的固體雜質(zhì)，所述周邊部貫通開設(shè)多個(gè)第一通孔，以使所述蒸鍍材料汽化后通過所述過濾裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述中心部貫通開設(shè)多個(gè)第二通孔，所述第二通孔的開口面積小于所述第一通孔的開口面積。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第一通孔為圓形孔，所述第一通孔的孔徑大于或等于2毫米。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第二通孔為圓形孔，所述第二通孔的孔徑小于或等于1毫米。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述中心部的通孔開口率小于所述周邊部的通孔開口率。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，在所述中心部，第二通孔的通孔開口率小于15％。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，在所述周邊部，第一通孔的通孔開口率大于50％。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第二通孔的通孔開口率和第一通孔的通孔開口率之和大于35％。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述過濾裝置在所述底壁上的正投影圖形為第一圖形，所述中心部在所述底壁上的正投影圖形為第二圖形，所述第一圖形的中心與所述第二圖形的中心重合；

所述周邊部在所述底壁上的正投影圖形為第三圖形，所述第三圖形為環(huán)繞所述第二圖形的環(huán)形。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第二圖形的面積與所述第三圖形的面積的比值在0.5-1.5之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述過濾裝置具有第一腔室，所述過濾裝置還包括與所述第一腔室圍設(shè)成封閉空間的蓋板，所述蓋板上設(shè)有多個(gè)第三通孔。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蓋板包括正對所述中心部的中心區(qū)域和正對所述周邊部的周邊區(qū)域，所述周邊區(qū)域用于阻擋穿過所述第一通孔的固體雜質(zhì)，所述第三通孔位于所述中心區(qū)域。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蓋板為中空板，所述中空板包括與所述第一腔室圍設(shè)成封閉空間的第一壁、與所述第一壁相對設(shè)置的第二壁，所述第三通孔設(shè)置在所述第一壁上，且所述第三通孔正對所述中心部，所述第一壁未設(shè)置所述第三通孔的區(qū)域用于阻擋穿過所述第一通孔的固體雜質(zhì)；

還包括第四通孔，所述第四通孔設(shè)置在所述第二壁上，所述第三通孔與所述第四通孔沿預(yù)設(shè)方向交替設(shè)置。

14.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至13任一項(xiàng)所述的蒸鍍坩堝。