[發明專利]薄膜沉積設備及薄膜沉積方法

在審

• 申請號: 202011186034.6
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112442683A
• 公開（公告）日: 2021-03-05
• 發明（設計）人: 林俊成
• 申請（專利權）人: 鑫天虹(廈門)科技有限公司
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46;C23C16/458;C23C14/50
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨

1.一種薄膜沉積設備，其特征在于，包括：

一腔體，包括一容置空間；

至少一進氣口，流體連接該腔體的該容置空間，并用以將一制程氣體輸送至該容置空間；

一載臺，位于該容置空間內，并用以承載至少一基板；

一支撐件，連接該載臺；

至少一冷卻氣體輸入管線，位于該載臺內，并將一冷卻氣體輸送至該載臺與該基板之間，使得該冷卻氣體接觸該基板，以降低該基板的溫度；

至少一擋件，位于該腔體的該容置空間內；及

一升降裝置，連接該支撐件，并經由該支撐件帶動該載臺及該擋件相對位移，以調整該載臺及該擋件之間的間距，其中該升降裝置驅動該載臺靠近該擋件，使得該擋件接觸該載臺上的該基板，以將該基板固定該載臺上，并通過該冷卻氣體輸入管線將該冷卻氣體輸送至該載臺與該基板之間，其中該冷卻氣體輸入管線停止輸送該冷卻氣體，該升降裝置帶動該載臺離開該擋件，使得該擋件與該載臺上的該基板存在一間隙，并在該基板的表面進行一沉積步驟。

2.根據權利要求1所述的薄膜沉積設備，其特征在于，包括至少一冷卻循環通道接觸該擋件，該冷卻循環通道用以輸送一冷卻流體，以降低該擋件的溫度。

3.一種薄膜沉積設備，其特征在于，包括：

一腔體，包括一容置空間；

至少一進氣口，流體連接該腔體的該容置空間，并用以將一制程氣體輸送至該容置空間；

一載臺，位于該容置空間內，并用以承載至少一基板；

一支撐件，連接該載臺；

至少一冷卻氣體輸入管線，位于該載臺內，并將一冷卻氣體輸送至該載臺與該基板之間，使得該冷卻氣體接觸該基板，以降低該基板的溫度；

至少一擋件，位于該腔體的該容置空間內，其中該擋件的一端具有一環形凸緣；

一蓋環，設置在該擋件的該環形凸緣上；及

一升降裝置，連接該支撐件，并經由該支撐件帶動該載臺相對于該擋件上的該蓋環位移，以調整該載臺及該擋件上的該蓋環之間的間距，其中該升降裝置驅動該載臺靠近該蓋環，使得該擋件上的該蓋環接觸該載臺上的該基板，以將該基板固定該載臺上，并通過該冷卻氣體輸入管線將該冷卻氣體輸送至該載臺與該基板之間，其中該冷卻氣體輸入管線停止輸送該冷卻氣體，該升降裝置帶動該載臺離開該蓋環，使得該擋件上的該蓋環與該載臺上的該基板存在一間隙，并在該基板的表面進行一沉積步驟。

4.根據權利要求3所述的薄膜沉積設備，其特征在于，包括一環狀構造設置在該載臺上，并環繞設置在該基板的周圍，其中該環狀構造包括至少一凹槽，而該蓋環則包括至少一凸出部，當該擋件接觸該基板時，該擋件的該凸出部會位于該凹槽內。

5.根據權利要求4所述的薄膜沉積設備，其特征在于，其中該環狀構造包括復數個凹槽，且最靠近該載臺中心的該凹槽的深度大于其他的該凹槽，而該蓋環則包括復數個凸出部，且最靠近該載臺中心的該凸出部的長度大于其他的該凸出部。

6.根據權利要求5所述的薄膜沉積設備，其特征在于，其中在該基板的表面進行該沉積步驟時，最靠近該載臺中心的該凸出部部分位于最靠近該載臺中心的該凹槽內。

7.根據權利要求3所述的薄膜沉積設備，其特征在于，包括至少一冷卻循環通道接觸該擋件，該冷卻循環通道用以輸送一冷卻流體，以降低該擋件及該蓋環的溫度。

8.一種薄膜沉積方法，其特征在于，包括：

傳輸一制程氣體至一腔體的一容置空間，其中該腔體內的一擋件未接觸一載臺上的至少一基板，并對位于該載臺上的該基板進行一沉積步驟；

停止該沉積步驟，驅動該載臺靠近該擋件，使得該擋件接觸該載臺上的該基板；

傳輸一冷卻氣體至該載臺與該基板之間，使得該冷卻氣體接觸該基板，以降低該基板的溫度；及

停止傳輸該冷卻氣體，驅動該載臺離開該擋件，使得該擋件不接觸該基板。