[發明專利]周期對稱結構的抑制高級次反射短波通膜系濾光片

有效

• 申請號: 202011183881.7
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112230325B
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 班超;金秀;趙帥鋒;任少鵬;高鵬;王忠連;王瑞生;程佳祥;安偉國
• 申請（專利權）人: 沈陽儀表科學研究院有限公司
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28
• 代理公司: 沈陽亞泰專利商標代理有限公司 21107
• 代理人: 郭元藝

本發明屬光學濾光片領域，尤其涉及一種周期對稱結構的抑制高級次反射短波通膜系濾光片，膜系結構為：或；其中：H為高折射率材料；L為低折射率材料；S為玻璃基底；A為空氣；a、b、c為擬合系數，通過調整擬合系數達到抑制高級次反射效果；m為膜系的總體循環個數，決定膜系的陡度和截止深度。本發明濾光片采用高、低兩種折射率材料實現兩種材料抑制高級次反射，其工藝簡單，可制備性高。

技術領域

本發明屬光學濾光片領域，尤其涉及一種周期對稱結構的抑制高級次反射短波通膜系濾光片。

背景技術

短波通濾光片在光學系統中應用廣泛。其特點為短波處為透射帶，相對長波處為截止帶，光譜在在截止波長的中心位置的1/N(N＝1、3、5……)處會有相應的高級次反射帶出現，隨著短波通通帶范圍的增大，其通帶范圍受高級次反射帶的影響越大。

目前，現有的抑制高級次反射的方法有兩種：

1、以周期對稱膜系(0.5LH0.5L)^m做為初始結構，配合計算機優化的方法，容易消除二級次反射。但是三級次以上反射，優化難度長，膜層不規整且有超薄層，工藝實現難度大。

2、多種介質材料周期對稱膜系：如三種材料(LMHML)^m可消二、三級次處的反射帶。但是需要三種以上材料，常規鍍膜機配備雙電子槍，很難實現多種材料鍍制，另外由于可選擇的膜料有限，不容易匹配所需折射率，消高級次反射效果不好。

發明內容

本發明旨在克服現有技術的不足之處而提供一種周期對稱結構的抑制高級次反射短波通膜系濾光片。該濾光片采用高、低兩種折射率材料實現兩種材料抑制高級次反射，大幅降低工藝難度，具有較高的可制備性。

周期對稱結構的抑制高級次反射短波通膜系濾光片，其膜系結構為：S|(aLbHcLHcLbHaL)^^m|A或S|(LaHbLcHbLaHL)^^m|A；其中：H為高折射率材料；L為低折射率材料；S為玻璃基底；A為空氣；a、b、c為擬合系數，通過調整擬合系數達到抑制高級次反射效果；m為膜系的總體循環個數，決定膜系的陡度和截止深度。

作為一種優選方案，本發明所述H與L采用TiO₂/SiO₂、HfO₂/SiO₂、Ta₂O₅/SiO₂或Nb₂O₅/SiO₂光學薄膜材料。

進一步地，本發明所述H與L均為光學厚度為λ₀/4的膜層。

進一步地，本發明所述S|(aLbHcLHcLbHaL)^^m|A中，a、b、c擬合系數存在如下關系：b≈c；a+b+c≈1；b+ca。

進一步地，本發明所述S|(LaHbLcHbLaHL)^^m|A中，a、b、c擬合系數存在如下關系：cba；a+b+c≈3；cb+a。

本發明周期對稱結構的抑制高級次反射短波通膜系濾光片采用高、低兩種折射率材料實現兩種材料抑制高級次反射，大幅降低工藝難度，具有較高的可制備性。本發明基礎膜系可通過兩種材料抑制短波通濾光片的二、三、四級次反射帶。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步說明。本發明的保護范圍不僅局限于下列內容的表述。

圖1為本發明膜系結構示意圖；

圖2為短波通濾光片透過率曲線；

圖3為本發明實施例濾光片透過率曲線。

具體實施方式