[發明專利]一種位置可調式氣霧化制粉系統

在審

• 申請號: 202011183047.8
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112122619A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發明（設計）人: 胡麗紅;陳衛紅;宗偉;王策
• 申請（專利權）人: 佛山市中研非晶科技股份有限公司
• 主分類號: B22F9/08
• 分類號: B22F9/08;B22F1/00
• 代理公司: 廣州科粵專利商標代理有限公司 44001
• 代理人: 譚健洪;莫瑤江

1.一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，包括移動機構和擺動機構，所述移動機構的活動端上設有噴氣裝置，所述噴氣裝置上穿設有出液裝置，所述出液裝置上連接有可裝載金屬液并進行加熱的加熱裝置，所述擺動機構的活動端上設有用于金屬液冷卻的旋轉罐，所述旋轉罐位于出液裝置的下方。

2.根據權利要求1所述的一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，所述移動機構包括第一直線移動裝置，所述第一直線移動裝置的活動端上設有升降機構，所述噴氣裝置、出液裝置和加熱裝置均設置于升降機構的活動端上。

3.根據權利要求1所述的一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，所述加熱裝置與出液裝置之間連接有用于穩壓連接噴杯，所述加熱裝置與連接噴杯的連接處設有用于控制金屬液流通與阻塞的閥門組件。

4.根據權利要求3述的一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，所述閥門組件包括承接部，所述承接部中間開設有可供金屬液流通的第一流動通孔，所述第一流動通孔的一端與加熱裝置連通，另一端與連接噴杯連通；所述承接部內滑動連接有可完全封閉第一流動通孔的塞桿。

5.根據權利要求4所述的一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，包括用于驅動塞桿移動的閥門直線驅動機構，所述閥門直線驅動機構的活動端與塞桿連接。

6.根據權利要求述3的一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，所述加熱裝置包括加熱容器和加熱線圈，所述加熱線圈繞設于加熱容器的外側壁上，所述加熱容器與連接噴杯連接，所述閥門組件設置于加熱容器與連接噴杯的連接處。

7.根據權利要求3述的一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，所述移動機構的活動端上開設有與連接噴杯相匹配的噴杯凹槽，所述連接噴杯匹配安裝于噴杯凹槽內，所述連接噴杯的外側設有位于噴杯凹槽內的保溫層。

8.根據權利要求1述的一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，所述出液裝置的端部設有連接部，所述連接部的側壁上開設有用于改變氣體流向的第一導流凹槽，所述第一導流凹槽繞著出液裝置的中軸線布置，所述連接部的底部開設有繞著出液裝置中軸線布置的第二導流凹槽。

9.根據權利要求1述的一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，所述噴氣裝置呈環狀布置且其外周側開設有進氣口，所述噴氣裝置下側開設有出氣口，所述出氣口的開口傾斜設置且朝向所述噴氣裝置的中心軸位置；所述噴氣裝置內形成有與進氣口及出氣口連通的連接腔，所述連接腔內設有分隔部，所述分隔部將連接腔劃分為第一存氣室和緩沖室，所述進氣口、連接腔、第一存氣室、緩沖室、以及出氣口依次連通。

10.根據權利要求9述的一種位置可調式氣霧化制粉系統，其特征在于，所述噴氣裝置包括上下裝接設置的上嘴部和下嘴部，所述上嘴部與下嘴部均呈環狀設置，所述連接腔形成于裝接固定的所述上嘴部與下嘴部之間；所述上嘴部的外周側壁下段繞設形成有第一環形凹陷部，所述分隔部周向布置于所述下嘴部的上側，所述分隔部靠近下嘴部中軸線一側的側壁上設有第二環形凹陷部，所述緩沖室形成于第一環形凹陷部與第二環形凹陷部之間。