[發明專利]顯示設備及制造顯示設備的方法在審
| 申請號: | 202011182565.8 | 申請日: | 2020-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN112786655A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發明(設計)人: | 樸鏞升;金永敏;李紫云;趙玟俊;崔海悧 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司 11018 | 代理人: | 嚴芬;康泉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 設備 制造 方法 | ||
1.一種顯示設備,包括:
基底基板,包括開口區域、開口外圍區域以及至少部分地圍繞所述開口外圍區域的顯示區域,其中所述開口外圍區域是至少部分地圍繞所述開口區域的非顯示區域;
薄膜晶體管,在所述顯示區域中被布置在所述基底基板上;
通孔絕緣層,被布置在所述薄膜晶體管上并具有圍繞所述開口區域的第一開口,其中所述第一開口在所述開口外圍區域中;
像素限定層,被布置在所述通孔絕緣層上并具有與所述通孔絕緣層的所述第一開口重疊的第一開口;
透明填充物,在所述開口區域中被布置在所述基底基板上;以及
密封基板,被布置在所述透明填充物上。
2.根據權利要求1所述的顯示設備,其中,所述透明填充物被布置在所述基底基板與所述密封基板之間,并與所述基底基板和所述密封基板接觸。
3.根據權利要求2所述的顯示設備,其中,所述透明填充物包括有機材料,并且所述通孔絕緣層和所述像素限定層均包括有機材料。
4.根據權利要求3所述的顯示設備,其中,所述基底基板和所述密封基板均包括玻璃,并且所述透明填充物具有1.48的折射率。
5.根據權利要求1所述的顯示設備,進一步包括:
數據信號線,被布置在所述基底基板與所述通孔絕緣層之間,
其中,所述通孔絕緣層的所述第一開口和所述像素限定層的所述第一開口暴露所述數據信號線。
6.根據權利要求5所述的顯示設備,進一步包括:
第一絕緣層,被布置在所述基底基板上;
柵信號線,被布置在所述第一絕緣層上;以及
第二絕緣層,被布置在所述柵信號線上,
其中,所述第二絕緣層被布置在所述數據信號線與所述柵信號線之間。
7.根據權利要求6所述的顯示設備,其中,所述第一絕緣層、所述第二絕緣層、所述通孔絕緣層以及所述像素限定層不被布置在所述開口區域中。
8.根據權利要求1所述的顯示設備,其中,所述透明填充物與所述通孔絕緣層接觸。
9.根據權利要求1所述的顯示設備,其中,所述通孔絕緣層的所述第一開口和所述像素限定層的所述第一開口形成第一重疊開口,
其中,所述通孔絕緣層包括第二開口,并且所述像素限定層包括與所述通孔絕緣層的所述第二開口重疊的第二開口,其中,所述通孔絕緣層的所述第二開口和所述像素限定層的所述第二開口形成第二重疊開口,
其中,所述第一重疊開口與所述第二重疊開口間隔開。
10.根據權利要求1所述的顯示設備,其中,所述通孔絕緣層的所述第一開口和所述像素限定層的所述第一開口形成第一重疊開口,
其中,所述第一重疊開口的寬度在6微米和10微米之間。
11.根據權利要求1所述的顯示設備,進一步包括:
光學模塊,被布置在所述基底基板下方并且在所述開口區域中與所述透明填充物重疊。
12.根據權利要求1所述的顯示設備,其中,所述透明填充物、所述密封基板以及所述基底基板具有相同的折射率。
13.根據權利要求1所述的顯示設備,進一步包括:
間隔物,被布置在所述像素限定層與所述密封基板之間。
14.根據權利要求1所述的顯示設備,進一步包括:
第一電極,被布置在所述通孔絕緣層上并電連接到所述薄膜晶體管;
發光層,被布置在所述第一電極上;以及
第二電極,被布置在所述發光層上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





