[發明專利]一種TADF發光分子發光性能的高通量預測方法有效
| 申請號: | 202011181452.6 | 申請日: | 2020-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN112185478B | 公開(公告)日: | 2022-05-31 |
| 發明(設計)人: | 譚箏;史衛梅;楊仕清 | 申請(專利權)人: | 成都職業技術學院 |
| 主分類號: | G16C20/20 | 分類號: | G16C20/20;G06N3/08;G06N3/04 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214 | 代理人: | 胡川 |
| 地址: | 610299 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 tadf 發光 分子 性能 通量 預測 方法 | ||
1.一種TADF發光分子發光性能的高通量預測方法,其特征在于,包括步驟:
S1:從有機分子化學數據庫中篩選出分子給體、分子受體以及分子連接體,其中,所述分子給體、分子受體滿足預設光電性能條件;
S2:按照BRICS逆向合成規則,根據分子給體-分子連接體-分子受體的合成方式對每個分子給體、分子受體以及分子連接體進行虛擬合成,得到TADF發光分子;
S3:選擇預定數量的TADF發光分子作為樣本分子,對所述樣本分子進行DFT或TDDFT計算,得到每一樣本分子的單重態-三重態激發能間隙ΔEST和躍遷振動強度f,作為每一樣本分子的發光性能指標;
S4:將樣本分子的分子結構轉換成ECFP分子指紋,使用基于深度神經網絡的回歸模型對樣本分子的ECFP分子指紋和發光性能指標進行訓練,并使用訓練好的回歸模型對所有TADF發光分子的發光性能指標進行預測;
S5:從所有TADF發光分子中選擇發光性能指標大于預設發光性能閥值的TADF發光分子作為實驗合成對象;
所述預設光電性能條件為EHOMO-6.5eV和ELUMO-1.0eV,EHOMO表示最高占據分子軌道能量,ELUMO表示最低未占分子軌道能量。
2.根據權利要求1所述的高通量預測方法,其特征在于,所述預設發光性能閥值為f0.1和ΔEST0.15eV或者f0.05和ΔEST0.175eV。
3.根據權利要求2所述的高通量預測方法,其特征在于,所述預定數量為所有TADF發光分子數量的千分之一或百分之一。
4.根據權利要求1所述的高通量預測方法,其特征在于,所述深度神經網絡為全連接深度神經網絡。
5.根據權利要求4所述的高通量預測方法,其特征在于,所述深度神經網絡的結構為四層,第一層為輸入層x,共有1024個神經元,與分子特征數量相同;第二層為第一隱藏層h1,共有512個神經元,每個神經元與輸入層全連接,由輸入層經過非線性變換h1=Relu(w1x+b1)得到,其中,Relu為線性整流激活函數,w1為連接系數,b1為偏置,x為輸入層;第三層為第二隱藏層h2,共有256個神經元,每個神經元與第一隱藏層h1全連接,由第一隱藏層h1經過非線性變換h2=Relu(w2h1+b2)得到,其中,w2為連接系數,b2為偏置;第四層為輸出層P,共有1個神經元,該神經元與第二隱藏層h2全連接,由第二隱藏層h2經過線性變換P=w3h2+b3得到,其中,w3為連接系數,b3為偏置,輸出層P的輸出為發光性能指標。
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