[發(fā)明專利]一種探測器像素內(nèi)響應(yīng)變化測量方法及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011181240.8 | 申請日: | 2020-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN112504631A | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 袁利;張承鈺;王立;鄭然;武延鵬;王苗苗 | 申請(專利權(quán))人: | 北京控制工程研究所 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 馬全亮 |
| 地址: | 100080 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 探測器 像素 響應(yīng) 變化 測量方法 系統(tǒng) | ||
1.一種探測器像素內(nèi)響應(yīng)變化測量方法,其特征在于包括以下步驟:
(1)搭建探測器像素內(nèi)響應(yīng)變化測量系統(tǒng);
(2)對入射光場圖像進行采集;
(3)探測器像素內(nèi)響應(yīng)變化圖處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種探測器像素內(nèi)響應(yīng)變化測量方法,其特征在于:探測器像素內(nèi)響應(yīng)變化測量系統(tǒng)包括:白熾燈光源(1)、彩色濾光片(2)、針孔掩模(3)、平行光管(4)、光學(xué)平臺(5)、顯微鏡物鏡(6)、圖像探測器芯片(7)、三軸位移平臺(8)、基座(9)、暗室艙(10)和直流電源(11);
光學(xué)平臺(5)上依次放置白熾燈光源(1)、彩色濾光片(2)、針孔掩模(3)、平行光管(4)、顯微鏡物鏡(6)和三軸位移平臺(8),基座(9)安裝在三軸位移平臺(8)上,圖像探測器芯片(7)固定在基座(9)上;顯微鏡物鏡(6)、圖像探測器芯片(7)、三軸位移平臺(8)和基座(9)均位于暗室艙(10)內(nèi)部;直流電源(11)用于給白熾燈光源(1)供電。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種探測器像素內(nèi)響應(yīng)變化測量方法,其特征在于:白熾燈光源(1)產(chǎn)生的光源通過彩色濾光片(2)獲得固定波長的光波同時濾掉紫外光和其他光學(xué)光,經(jīng)過彩色濾光片(2)的光線通過針孔掩模(3)后進入平行光管(4),光線經(jīng)過平行光管(4)和顯微鏡物鏡(6),照射在圖像探測器芯片(7)表面,并在單個像素及其相鄰像素上形成掃描光斑,以測量其在選定像素位置上的待測像素的響應(yīng)變化情況。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種探測器像素內(nèi)響應(yīng)變化測量方法,其特征在于:所述步驟(2)對入射光場圖像進行采集,具體為:
(2.1)打開光源,連接圖像探測器與計算機;待光源預(yù)熱十五分鐘穩(wěn)定后,圖像探測器表面產(chǎn)生一個光斑;在測量中選用圓形顯微鏡物鏡,得到的光斑輪廓為艾里斑衍射圖像;
(2.2)開始掃描前,控制三軸位移平臺,使得光斑定位在待測像素的中心,然后移動到掃描區(qū)域的開始位置;調(diào)整位移平臺與光軸共線的軸,使圖像探測器芯片移動到顯微鏡物鏡的焦平面上;
(2.3)對圖像探測器芯片以待測像素為中心,對其周圍預(yù)設(shè)像素區(qū)域進行掃描;
利用計算機控制三軸位移平臺移動,使入射光束在圖像探測器芯片上進行掃描并捕獲子幀圖像,以待測像素為中心的像素區(qū)域,構(gòu)成一幅子幀圖像;在每個掃描點位置捕獲M幅子幀圖像,計算每個掃描點數(shù)次掃描結(jié)果的平均值;
(2.4)掃描區(qū)域中所有掃描幀圖像的平均值存儲在計算機的數(shù)據(jù)文件中,存儲數(shù)據(jù)的順序與執(zhí)行掃描的順序相同;讀取所有文件,將待測像素的灰度值數(shù)據(jù)存儲在一個新矩陣中,由此獲得的待測像素信號作為入射光斑位置的函數(shù),從而提供像素響應(yīng)圖像。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種探測器像素內(nèi)響應(yīng)變化測量方法,其特征在于:光學(xué)顯微鏡物鏡分辨率的阿貝極限如下所示
其中,rspot是光斑的半徑,定義為從光斑中心到第一個最小艾里斑的距離,λ是入射光波的波長,n是物鏡的折射率,α=tan(d/2f)是由物鏡直徑d和焦距f定義的會聚角,NA是顯微鏡的數(shù)值孔徑,即鏡口率。
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