[發明專利]片式電阻絲印外觀檢測方法、裝置、電子設備和存儲介質

在審

• 申請號: 202011179956.4
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112184706A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 蔡浩聰;李旭杰;楊成胡;李凱;趙鴻燕
• 申請（專利權）人: 廣東省電子技術研究所;廣東廣晟研究開發院有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/136;G06T7/62;G06T5/30;G06T5/00;G06T3/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種片式電阻絲印外觀檢測方法，其特征在于，包括：

獲取標準大區域圖像，所述標準大區域圖像中包括經目標絲印工序后合格的基板上每個絲印的標準大區域；

獲取所述目標絲印工序的待檢測基板的原始圖像，并對所述原始圖像進行圖像預處理得到預處理后的目標圖像；

對所述目標圖像二值化得到所述目標圖像的二值化圖像，所述二值化圖像包括絲印的絲印圖像區域；

針對每個絲印，將所述絲印的絲印圖像區域與所述標準大區域圖像中所述絲印的標準大區域求交集，得到所述絲印的實際絲印圖像區域；

計算所述實際絲印圖像區域的長度、寬度和面積，并根據所述實際絲印圖像區域的長度、寬度和面積判斷所述絲印是否存在第一等級缺陷；

在判斷所述絲印不存在第一等級缺陷時，對所述絲印的實際絲印圖像區域進行形態學運算修復，得到所述絲印的完整矩形圖像區域；

將所述完整矩形圖像區域膨脹和收縮處理得到膨脹圖像區域和收縮圖像區域，并將所述膨脹圖像區域和所述收縮圖像區域分別與所述實際絲印圖像區域做差運算得到第一區域和第二區域；

根據所述第一區域和所述第二區域判斷所述絲印是否存在第二等級缺陷。

2.根據權利要求1所述的片式電阻絲印外觀檢測方法，其特征在于，所述獲取標準大區域圖像，包括：

獲取經目標絲印工序后合格的基板的原始圖像；

對所述合格的基板的原始圖像進行預處理，得到所述合格的基板預處理后的圖像，其中，所述預處理包括畸變矯正、基板的原始圖像中所述基板的區域對齊到所述基板的原始圖像的中心、對比度增強、邊緣銳化處理；

對所述合格的基板預處理后的圖像二值化，得到所述合格的基板的二值化圖像，所述合格的基板的二值化圖像包括絲印的絲印圖像區域；

確定所述合格的基板的二值化圖像中每個絲印圖像區域的最小外接矩形區域；

膨脹處理所述合格的基板的二值化圖像中的最小外接矩形區域，得到標準大區域圖像，所述標準大區域圖像中膨脹處理后的最小外接矩形區域為絲印的標準大區域，各個絲印的標準大區域互不相通。

3.根據權利要求1所述的片式電阻絲印外觀檢測方法，其特征在于，所述獲取所述目標絲印工序的待檢測基板的原始圖像，并對所述原始圖像進行圖像預處理得到預處理后的目標圖像，包括：

實時采集所述目標絲印工序后待檢測基板的原始圖像；

對所述待檢測基板的原始圖像進行圖像畸變矯正，得到畸變矯正后的圖像；

從所述畸變矯正后的圖像中確定出待檢測基板的基板區域；

在所述畸變矯正后的圖像中將所述基板區域的中心對齊到所述畸變矯正后的圖像中心，得到校正后的圖像；

對所述校正后的圖像執行對比度增強和邊緣銳化處理得到目標圖像。

4.根據權利要求3所述的片式電阻絲印外觀檢測方法，其特征在于，所述在所述畸變矯正后的圖像中將所述基板區域的中心對齊到所述畸變矯正后的圖像中心，得到校正后的圖像，包括：

采用形態學開運算法平滑所述基板區域的邊緣鋸齒或噪聲，得到規則的基板區域；

確定所述規則的基板區域的最小外接矩形，并計算所述最小外接矩形的角度和中心坐標；

通過以下仿射變換公式將所述基板區域對齊到圖像中心：

其中，(x′，y′)為基板區域中心彷射變換后在圖像中的坐標，(x，y)為基板區域中心彷射變換前在圖像中的坐標，Angle1為最小外接矩形的角度，Δx為仿射變換前基板區域中心的x坐標與圖像中心的x坐標的差值，Δy為仿射變換前基板區域中心的y坐標與圖像中心的y坐標的差值。