[發(fā)明專利]一種圖片圖層的分離方法和裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011179437.8 | 申請日: | 2020-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN112465734A | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 韋金宋 | 申請(專利權(quán))人: | 星業(yè)(海南)科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/50 | 分類號: | G06T5/50;G06T5/00;G06T5/30;G06T7/13 |
| 代理公司: | 廣州駿思知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44425 | 代理人: | 吳靜芝 |
| 地址: | 570000 海南省海口市龍華區(qū)*** | 國省代碼: | 海南;46 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 圖片 分離 方法 裝置 | ||
本發(fā)明通過一種圖片圖層的分離方法和裝置,主要依靠Opencv,通過輪廓坐標點計算,精準定位到待提取的圖形區(qū)域,并對邊緣區(qū)域進行模糊和腐蝕處理,使分離得到的圖層邊緣區(qū)域更加平滑。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及圖像處理技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種圖片圖層的分離方法和裝置。
背景技術(shù)
輪廓摳圖是圖像處理中最常見的操作之一,在圖片上繪制一個閉合的區(qū)域,將圖像上閉合的區(qū)域分離出來,成為單獨的圖形,為后期的圖像合成等處理做準備。目前市場上所采用的,基本都是傳統(tǒng)的輪廓摳圖,使用Xfermsde來實現(xiàn),實施過程為:繪制一個矩形區(qū)域,然后與原圖做個交集結(jié)果輸出的轉(zhuǎn)換,從而實現(xiàn)將圖像上矩形局域分離出來,成為單獨的圖層。
傳統(tǒng)輪廓摳圖的方案,當輪廓摳圖區(qū)域邊緣沒有準確選取的時候,分離出的圖層摻雜著原圖中未被選取的區(qū)域,最終切割分離的邊緣區(qū)域沒有進行模糊或腐蝕處理,導(dǎo)致?lián)赋龅膱D像mask區(qū)域邊緣不夠平滑。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述提到的問題,本發(fā)明提供一種圖片圖層的分離方法和裝置,當輪廓邊緣選擇不精準時,可以對圖像的邊緣區(qū)域進行模糊和腐蝕處理,使分離出的圖像邊緣區(qū)域更加平滑。
本發(fā)明提供一種圖片圖層的分離方法,所述方法包括:
識別待處理圖片,根據(jù)繪制的輪廓區(qū)域,存儲標注輪廓的坐標點。
使用Opencv根據(jù)輪廓坐標點,準確計算出待處理的輪廓區(qū)域,并繪制出與待處理區(qū)域大小一致的黑白色mask圖層。
將所述黑白色mask圖形邊緣進行模糊和腐蝕處理,使mask圖層邊緣更加平滑。
使用mask圖層與原圖進行邊緣元素點和背景元素點進行元素融合,得到輪廓分離后的圖層。
另一方面,本發(fā)明提供一種圖片圖層的分離裝置,所述裝置包括:
坐標模塊:識別待處理圖片,根據(jù)繪制的輪廓區(qū)域,存儲標注輪廓的坐標點。
繪制模塊:使用Opencv根據(jù)輪廓坐標點,準確計算出待處理的輪廓區(qū)域,并繪制出與待處理區(qū)域大小一致的黑白色mask圖層。
處理模塊:將所述黑白色mask圖形邊緣進行模糊和腐蝕處理,使mask圖層邊緣更加平滑。
融合模塊:使用mask圖層與原圖進行邊緣元素點和背景元素點進行元素融合,得到輪廓分離后的圖層。
本發(fā)明通過一種圖片圖層的分離方法和裝置,主要依靠Opencv,通過輪廓坐標點計算,精準定位到待提取的圖形區(qū)域,并對邊緣區(qū)域進行模糊和腐蝕處理,使分離得到的圖層邊緣區(qū)域更加平滑。
附圖說明
圖1示出了本發(fā)明的一種圖片圖層的分離方法流程圖;
圖2示出了本發(fā)明的一種圖片圖層的分離裝置流程圖。
具體實施方式
本發(fā)明主要提供一種圖片圖層的分離方法和裝置,通過更加合理的選取輪廓邊緣區(qū)域,對圖像的邊緣區(qū)域進行模糊和腐蝕處理,使分離出的圖片圖層區(qū)域更加平滑。
其中,一種圖片圖層的分離方法,所述方法包括:
識別待處理圖片,根據(jù)繪制的輪廓區(qū)域,存儲標注輪廓的坐標點。
使用Opencv根據(jù)輪廓坐標點,準確計算出待處理的輪廓區(qū)域,并繪制出與待處理區(qū)域大小一致的黑白色mask圖層。
將所述黑白色mask圖形邊緣進行模糊和腐蝕處理,使mask圖層邊緣更加平滑。
使用mask圖層與原圖進行邊緣元素點和背景元素點進行元素融合,得到輪廓分離后的圖層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于星業(yè)(海南)科技有限公司,未經(jīng)星業(yè)(海南)科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011179437.8/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





