[發(fā)明專利]一種方片邊緣堆膠的去除方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011177623.8
• 申請(qǐng)日: 2020-10-29
• 公開（公告）號(hào): CN112162471A
• 公開（公告）日: 2021-01-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邊疆;王惠生;樸勇男;張德強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 沈陽芯源微電子設(shè)備股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/42
• 分類號(hào): G03F7/42;G03F7/40
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002
• 代理人: 于曉波

1.一種方片邊緣堆膠的去除方法，其特征在于：該方法是針對(duì)方片上涂覆的光刻膠進(jìn)行邊緣堆膠去除，具體包括如下步驟：

(1)方片傳送至涂膠單元涂覆光刻膠；

(2)在光刻膠涂覆時(shí)，采用化學(xué)方式對(duì)方片邊緣區(qū)域膠膜進(jìn)行部分去除，即減薄晶圓邊緣區(qū)域膠膜厚度，并控制減薄區(qū)域的大小；

(3)將方片邊緣減薄后，將方片的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速調(diào)整至1200r-1400r，旋轉(zhuǎn)5s，使方片減薄的邊緣部分重新掛膠，且使減薄區(qū)域的膠膜與中心光刻膠厚度一致；

(4)涂覆光刻膠后的方片傳送至熱板進(jìn)行后烘處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方片邊緣堆膠的去除方法，其特征在于：步驟(1)中，涂覆的光刻膠粘度為10-30cp，玻璃基底方片上所形成膠膜的厚度為1μm-5μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方片邊緣堆膠的去除方法，其特征在于：步驟(2)中，采用化學(xué)方式對(duì)方片進(jìn)行邊緣堆膠的去除時(shí)：目標(biāo)去除寬度為W1，設(shè)POS1為方片對(duì)角線上一點(diǎn)，則W1為POS1到方片外角的距離，設(shè)置POS2為在方片對(duì)角線上且在方片邊緣外側(cè)的點(diǎn)(在方片對(duì)角線外)，噴灑化學(xué)品(去除液)的針頭在POS1和POS2之間進(jìn)行往復(fù)掃描，通過控制化學(xué)品流量、針頭角度、掃描速度和掃描時(shí)間，使方片邊緣的光刻膠減薄至其初始厚度的50％～60％。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方片邊緣堆膠的去除方法，其特征在于：步驟(2)中，POS1與POS2之間的距離為2-4mm；采用化學(xué)方式(EBR)噴酒化學(xué)品時(shí)，化學(xué)品流量、針頭角度、掃面速度以及掃描時(shí)間，需要根據(jù)方片上的膠膜厚度、特性等確定。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方片邊緣堆膠的去除方法，其特征在于：方片邊緣的光刻膠減薄的厚度為0.5-2μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基底方片邊緣堆膠的去除方法，其特征在于：步驟(4)中，所述后烘處理的烘烤溫度110-130℃，烘烤時(shí)間90-180s。