[發(fā)明專利]聲波換能單元及其制備方法和聲波換能器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011174025.5 | 申請日: | 2020-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN112427282B | 公開(公告)日: | 2022-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孫拓 | 申請(專利權(quán))人: | 北京京東方技術(shù)開發(fā)有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | B06B1/02 | 分類號: | B06B1/02 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 吳俁;姜春咸 |
| 地址: | 100176 北京市北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 聲波 單元 及其 制備 方法 換能器 | ||
本公開提供了一種聲波換能單元,包括:襯底基板、第一電極、支撐圖形、振膜圖形和第二電極,第一電極位于襯底基板上,支撐圖形位于第一電極遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)且圍成有振動腔,振膜圖形位于支撐圖形遠(yuǎn)離第一電極的一側(cè)且能夠在振動腔內(nèi)振動,第二電極位于振膜圖形遠(yuǎn)離第一電極的一側(cè)且與第一電極相對設(shè)置;還包括:第一介質(zhì)圖形和/或第二介質(zhì)圖形,第一介質(zhì)圖形位于振動腔的底部,且在由第一介質(zhì)圖形的中心指向邊緣的方向上第一介質(zhì)圖形的厚度逐漸增大;第二介質(zhì)圖形位于振動腔的頂部,且在由第二介質(zhì)圖形的中心指向邊緣的方向上第二介質(zhì)圖形的厚度逐漸增大。本公開還提供了一種聲波換能單元的制備方法和聲波換能器。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及一種聲波換能單元及其制備方法和聲波換能器。
背景技術(shù)
超聲波檢測在醫(yī)學(xué)成像、治療、工業(yè)流量計、汽車?yán)走_(dá)、室內(nèi)定位等多方面有應(yīng)用。聲波換能器為一種可用于進(jìn)行超聲波檢測的設(shè)備,聲波換能單元為聲波換能器中的核心器件。
電容式微機械超聲換能單元CMUT具有一致性好,頻帶寬等特點得到廣泛認(rèn)可。目前,市面上的CMUT器件需要預(yù)置一個較大吸合工作電壓以實現(xiàn)振膜張緊的效果,以提高靈敏度和實現(xiàn)大的發(fā)射聲強,較大的吸合工作電壓通常比較難以實現(xiàn),需要高規(guī)格的電源芯片;另外,CMUT長時間在高電壓下工作,對器件的信賴性以及壽命產(chǎn)生不良影響。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一,提出了一種聲波換能單元及其制備方法和聲波換能器。
第一方面,本公開實施例提供了一種聲波換能單元,包括:襯底基板、第一電極、支撐圖形、振膜圖形和第二電極,所述第一電極位于所述襯底基板上,所述支撐圖形位于所述第一電極遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)且圍成有振動腔,振膜圖形位于所述支撐圖形遠(yuǎn)離所述第一電極的一側(cè)且能夠在所述振動腔內(nèi)振動,所述第二電極位于所述振膜圖形遠(yuǎn)離所述第一電極的一側(cè)且與所述第一電極相對設(shè)置;
聲波換能單元還包括:
第一介質(zhì)圖形,位于所述振動腔的底部,且在由所述第一介質(zhì)圖形的中心指向邊緣的方向上所述第一介質(zhì)圖形的厚度逐漸增大;
和/或,第二介質(zhì)圖形,位于所述振動腔的頂部,且在由所述第二介質(zhì)圖形的中心指向邊緣的方向上所述第二介質(zhì)圖形的厚度逐漸增大。
在一些實施例中,聲波換能單元還包括:
刻蝕阻擋層,位于所述第一電極與所述支撐圖形之間。
在一些實施例中,當(dāng)所述聲波換能單元包括有所述第一介質(zhì)圖形時,所述第一介質(zhì)圖形的材料與所述刻蝕阻擋層的材料相同。
在一些實施例中,當(dāng)所述聲波換能單元包括有所述第二介質(zhì)圖形時,所述第二介質(zhì)圖形的材料與所述振膜圖形的材料相同。
在一些實施例中,所述第二介質(zhì)圖形與振膜圖形相連且兩者一體成型。
在一些實施例中,當(dāng)所述聲波換能單元包括有所述第一介質(zhì)圖形時,所述第一介質(zhì)圖形靠近所述第一電極的一側(cè)表面為與所述襯底基板所處平面相平行的平面,所述第一介質(zhì)圖形遠(yuǎn)離所述第一電極的一側(cè)表面為與所述第一介質(zhì)圖形靠近所述第一電極的一側(cè)表面相交的斜坡面,且坡度角范圍包括:(0°,15°];
當(dāng)所述聲波換能單元包括有所述第二介質(zhì)圖形時,所述第二介質(zhì)圖形靠近所述振膜圖形的一側(cè)表面為與所述襯底基板所處平面相平行的平面,所述第二介質(zhì)圖形遠(yuǎn)離所述振膜圖形的一側(cè)表面為與所述第二介質(zhì)圖形靠近所述振膜圖形的一側(cè)表面相交的斜坡面,且坡度角范圍包括:(0°,15°]。
第二方面,本公開實施例還提供了一種聲波換能器,包括:如第一方面提供的所述聲波換能單元。
第三方面,本公開實施例還提供了一種聲波換能單元的制備方法,可用于制備第一方面提供的所述聲波換能單元,該制備方法包括:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京京東方技術(shù)開發(fā)有限公司;京東方科技集團股份有限公司,未經(jīng)北京京東方技術(shù)開發(fā)有限公司;京東方科技集團股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011174025.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





