[發(fā)明專利]一種去除硅片拋光面表面大顆粒的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011172168.2
• 申請(qǐng)日: 2020-10-28
• 公開（公告）號(hào): CN112271132B
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盧運(yùn)增;賀賢漢;洪漪;胡久林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/02
• 分類號(hào): H01L21/02;H01L21/68;B08B5/02
• 代理公司: 上海申浩律師事務(wù)所 31280
• 代理人: 陸葉

1.一種去除硅片拋光面表面大顆粒的方法，其特征在于，通過物理吹掃去除硅片拋光面表面大顆粒，所述大顆粒為0.50um及以上的大顆粒；

調(diào)節(jié)吹掃角度，吹掃角度控制在40°，所述吹掃角度指的是吹掃氣槍的出氣口的軸向與硅片之間的夾角；

調(diào)節(jié)吹掃壓力，吹掃壓力控制在0.15Mpa，

調(diào)節(jié)吹掃距離，吹掃距離控制在7cm；

還包括一用于安裝吹掃氣槍的安裝架，以及用于帶動(dòng)吹掃氣缸運(yùn)動(dòng)的二維平移機(jī)構(gòu)；

還包括一硅片安裝平臺(tái)，所述硅片安裝平臺(tái)與所述二維平移機(jī)構(gòu)的基座固定在同一支架上；

所述氣槍上安裝有一紅外激光器，所述紅外激光器的發(fā)光方向與所述氣槍的出氣方向平行；

所述二維平移機(jī)構(gòu)包括帶動(dòng)吹掃氣槍左右運(yùn)動(dòng)的左右平移機(jī)構(gòu)以及用于帶動(dòng)吹掃氣缸前后運(yùn)動(dòng)的前后平移機(jī)構(gòu)；

所述前后平移機(jī)構(gòu)的平移平臺(tái)上安裝有所述安裝架，所述左右平移機(jī)構(gòu)的平移平臺(tái)上安裝有所述前后平移機(jī)構(gòu)的基座；

所述左右平移機(jī)構(gòu)以及前后平移機(jī)構(gòu)是直線模組；

所述硅片安裝平臺(tái)包括內(nèi)設(shè)有空腔的中空置物板，所述空腔是一開口向上的槽體以及一頂板圍成，所述槽體內(nèi)固定有縱橫交錯(cuò)排布的隔板，所述隔板將槽體分隔成矩陣式排布的復(fù)數(shù)個(gè)導(dǎo)光腔，所述導(dǎo)光腔內(nèi)固定有LED發(fā)光元件，相鄰導(dǎo)光腔內(nèi)固定的LED發(fā)光元件的發(fā)光頻率不同，所述導(dǎo)光腔的內(nèi)壁涂覆有一反光涂層；

所述頂板上開設(shè)有一矩陣式排布的透光孔；

所述硅片安裝平臺(tái)的上方設(shè)有一硅片方位檢測(cè)機(jī)構(gòu)，所述硅片方位檢測(cè)機(jī)構(gòu)包括矩陣式排布的光敏傳感器，所述光敏傳感器的感應(yīng)方向與所述透光孔一一對(duì)應(yīng)；

所述光敏傳感器的信號(hào)輸出端連接主機(jī)，所述主機(jī)控制所述LED發(fā)光元件，且所述主機(jī)還控制連接所述二維平移機(jī)構(gòu)；

所述硅片方位檢測(cè)機(jī)構(gòu)還包括一硅片方位估計(jì)系統(tǒng)，所述硅片方位估計(jì)系統(tǒng)包括存儲(chǔ)模塊，所述存儲(chǔ)模塊存儲(chǔ)有光敏傳感器采集到的光點(diǎn)信息以及遮擋點(diǎn)信息；

所述光點(diǎn)信息為觸發(fā)光敏傳感器感應(yīng)到光的LED發(fā)光元件的光點(diǎn)坐標(biāo)信息,

所述遮擋點(diǎn)信息為未觸發(fā)光敏傳感器感應(yīng)到光的LED發(fā)光元件的遮擋點(diǎn)坐標(biāo)信息；

通過遮擋點(diǎn)坐標(biāo)信息以及光點(diǎn)坐標(biāo)信息獲得一硅片估計(jì)區(qū)域，以所述硅片估計(jì)區(qū)域作為吹氣區(qū)域，所述吹氣區(qū)域?yàn)檎趽觞c(diǎn)坐標(biāo)信息中鄰近光點(diǎn)坐標(biāo)信息的遮擋點(diǎn)的連線；

所述出氣區(qū)域設(shè)有至少一個(gè)直線段；

所述二維平移機(jī)構(gòu)通過一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)安裝在所述支架上；

所述主機(jī)控制所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)二維平移機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而將所述前后平移機(jī)構(gòu)的平移方向與所述直線段的長(zhǎng)度方向平行；

以所述直線段為硅片的長(zhǎng)度方向，吹氣區(qū)域中平行于所述硅片長(zhǎng)度方向上最大的長(zhǎng)度為第一運(yùn)動(dòng)行程參數(shù)；

以垂直于所述直線段的方向?yàn)樗龉杵膶挾确较颍禋鈪^(qū)域中平行于所述硅片的寬度方向上最大的長(zhǎng)度為第二運(yùn)動(dòng)行程參數(shù)；

以第一運(yùn)動(dòng)行程參數(shù)以及第二運(yùn)動(dòng)行程參數(shù)計(jì)算出長(zhǎng)度為第一運(yùn)動(dòng)行程參數(shù)以及寬度為第二運(yùn)動(dòng)行程參數(shù)的矩形結(jié)構(gòu)，且吹氣區(qū)域位于矩形結(jié)構(gòu)內(nèi)；

所述主機(jī)控制所述二維平移機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)軌跡為前后平移機(jī)構(gòu)行進(jìn)第一運(yùn)動(dòng)行程參數(shù)后，左右平移機(jī)構(gòu)行進(jìn)1cm，前后平移機(jī)構(gòu)反向行進(jìn)第一運(yùn)動(dòng)行程參數(shù)，左右平移機(jī)構(gòu)行進(jìn)1cm；

左右平移機(jī)構(gòu)的總行進(jìn)距離為第二運(yùn)動(dòng)行程參數(shù)；

左右平移機(jī)構(gòu)從遠(yuǎn)離硅片處向硅片處運(yùn)動(dòng)；

所述前后平移機(jī)構(gòu)的處于初始位置時(shí)，所述氣槍的吹氣方向正對(duì)矩形結(jié)構(gòu)的角部；

通過所述紅外激光器進(jìn)行氣槍位置的預(yù)校準(zhǔn)；

通過手動(dòng)調(diào)節(jié)二維平移機(jī)構(gòu)，將所述紅外激光器正對(duì)至少三個(gè)LED發(fā)光元件，所述主機(jī)將所述紅外激光器正對(duì)的LED發(fā)光元件的位置信息與二維平移機(jī)構(gòu)當(dāng)前的位置信息進(jìn)行綁定，以便主機(jī)根據(jù)吹氣區(qū)域的參數(shù)信息分析獲知二維平移機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)軌跡信息；

所述吹掃氣槍的材質(zhì)為PFA。