[發明專利]一種大面積均勻擴束的多極場磁鐵布局方法在審
| 申請號： | 202011171016.0 | 申請日： | 2020-10-28 |
| 公開（公告）號： | CN112446164A | 公開（公告）日： | 2021-03-05 |
| 發明（設計）人： | 楊新宇;郭剛;彭朝華 | 申請（專利權）人： | 中國原子能科學研究院 |
| 主分類號： | G06F30/25 | 分類號： | G06F30/25 |
| 代理公司： | 北京天悅專利代理事務所(普通合伙) 11311 | 代理人： | 任曉航;胡明軍 |
| 地址： | 102413 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 大面積 均勻 多極 磁鐵 布局 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種大面積均勻擴束的多極場磁鐵布局方法，其特征在于，在束流線上依次設置兩組雙單元四極磁鐵和一個八極磁鐵，所述兩組雙單元四極磁鐵控制束流包絡和張角，使得束流進入八極磁鐵時，X方向和Y方向的包絡和張角盡可能接近，且包絡大小適中，張角盡可能大，然后通過所述八極磁鐵同時對束流的X方向和Y方向進行均勻化。
2.如權利要求1所述的大面積均勻擴束的多極場磁鐵布局方法，其特征在于，通過調節兩組雙單元四極磁鐵的參數，由束流光學軟件擬合計算出束流在X方向和Y方向的包絡和張角盡可能接近的位置，作為八極磁鐵的設置位置。
3.如權利要求2所述的大面積均勻擴束的多極場磁鐵布局方法，其特征在于，所調節的兩組雙單元四極磁鐵的參數包括有效長度、極面場、孔徑。
4.如權利要求1所述的大面積均勻擴束的多極場磁鐵布局方法，其特征在于，兩組雙單元四極磁鐵的相距距離一般為200-400mm。
5.如權利要求1或4所述的大面積均勻擴束的多極場磁鐵布局方法，其特征在于，一組中兩個單四極磁鐵之間的間距小于300mm，所述兩個單四極磁鐵的有效長度和孔徑相同，極面場強可根據需要進行調整。
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