[發明專利]顯微鏡和用于確定顯微鏡中的像差的方法

在審

• 申請號: 202011170868.8
• 申請日: 2020-10-28
• 公開（公告）號: CN112748562A
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發明（設計）人: 克里斯蒂安·舒曼;亞歷山大·韋斯;安德烈亞斯·洛特
• 申請（專利權）人: 萊卡微系統CMS有限責任公司
• 主分類號: G02B21/24
• 分類號: G02B21/24
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋融冰

1.一種顯微鏡(100，800)，包括：

光學成像系統(102)，被配置為對包括蓋玻片(118)的樣品(114)進行成像，所述光學成像系統(102)包括可調校正裝置(104)，

顯微鏡驅動(106)，被配置為沿光學成像系統(102)的光軸(O1)調節蓋玻片(118)和光學成像系統(102)之間的距離，

位置敏感檢測器(108)，

光學測量系統(110)，被配置為：

形成第一測量光束(210a)和第二測量光束(210b)；將第一測量光束(210a)以相對于光學成像系統(102)的光軸(O1)的第一距離偏心地引導到光學成像系統(102)的入射光瞳(300)中，將第二測量光束(210b)以相對于光學成像系統(102)的光軸(O1)的第二距離偏心地引導到光學成像系統(102)的入射光瞳(300)中，第二距離與第一距離不同；接收由第一測量光束(210a)在蓋玻片(118)的表面上的部分反射通過光學成像系統(102)而產生的第一反射光束(222a)，接收由第二測量光束(210b)在蓋玻片(118)的表面上的部分反射通過光學成像系統(102)而產生的第二反射光束(222b)；以及將第一反射光束(222a)和第二反射光束(222b)引導到位置敏感檢測器(108)上；以及

控制單元(112)，被配置為：

記錄第一反射光束(222a)和第二反射光束(222b)在位置敏感檢測器(108)上的位置，并且基于所記錄的第一反射光束(222a)和第二反射光束(222b)的位置確定像差。

2.根據權利要求1所述的顯微鏡(100，800)，其中控制單元(112)被配置為：逐步地調節顯微鏡驅動(106)，針對每步記錄第一反射光束(222a)和第二反射光束(222b)在位置敏感檢測器(108)上的位置，逐步地調節校正裝置(104)，針對每步記錄第一反射光束(222a)和第二反射光束(222b)在位置敏感檢測器(108)上的位置，以及基于所記錄的第一反射光束(222a)和第二反射光束(222b)的位置確定像差。

3.根據權利要求1或2所述的顯微鏡(100，800)，其中控制單元(112)被配置為通過以下確定像差：

獲得第一反射光束(222a)在位置敏感檢測器(108)上的位置、蓋玻片(118)和光學成像系統(102)之間的沿光學成像系統(102)的光軸(O1)的距離以及可調校正裝置(104)的控制變量之間的第一函數相關性；

獲得第二反射光束(222b)在位置敏感檢測器(108)上的位置、蓋玻片(118)和光學成像系統(102)之間的沿光學成像系統(102)的光軸(O1)的距離以及可調校正裝置(104)的控制變量之間的第二函數相關性；以及

基于第一函數相關性和第二函數相關性確定像差。

4.根據權利要求3所述的顯微鏡(100，800)，其中控制單元(112)被配置為確定第一函數相關性和第二函數相關性，以及

在第一函數相關性和第二函數相關性是線性函數的假設下確定像差。

5.根據權利要求3或4所述的顯微鏡(100，800)，其中控制單元(112)被配置為通過以下校正像差：

基于第一函數相關性和第二函數相關性調節校正裝置(104)和顯微鏡驅動(106)，以使第一反射光束(222a)落在位置敏感檢測器(108)的第一預先確定區域上以及第二反射光束(222b)落在位置敏感檢測器(108)的第二預先確定區域上。

6.根據前述權利要求中任一項所述的顯微鏡(100，800)，其中控制單元(112)被配置為通過以下校正像差：

基于確定的像差，確定用于調節校正裝置(104)的控制變量的值和用于調節顯微鏡驅動(106)的控制變量的值，以及

根據校正裝置(104)和顯微鏡驅動(106)各自的控制變量的確定值調節校正裝置(104)和顯微鏡驅動(106)。

7.根據權利要求6所述的顯微鏡(100，800)，其中控制單元(112)被配置為基于用于調節校正裝置的控制變量的確定值確定蓋玻片(118)的光學厚度。