[發(fā)明專利]一種MBR一體化污水處理設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011169865.2 | 申請日: | 2020-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN112456642B | 公開(公告)日: | 2022-09-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 夏天華;廖秀煌;王添火 | 申請(專利權(quán))人: | 逸辰環(huán)保科技(廈門)有限公司 |
| 主分類號: | C02F3/30 | 分類號: | C02F3/30 |
| 代理公司: | 廈門律嘉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35225 | 代理人: | 張輝;李增進(jìn) |
| 地址: | 361000 福建省廈門市火炬高新區(qū)(翔安*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 mbr 一體化 污水處理 設(shè)備 | ||
1.一種MBR一體化污水處理設(shè)備,其特征在于:
包括箱體;
所述箱體的內(nèi)部沿進(jìn)水方向依次設(shè)有格柵池、缺氧池、好氧池、MBR膜池、消毒池、以及貯水池;
所述格柵池、缺氧池、好氧池、MBR膜池之間通過設(shè)于池壁上的通孔相連通;
所述MBR膜池上方的所述箱體上固定連通有廢氣處理組件;
所述MBR膜池內(nèi)底部固定有污泥回流泵,所述污泥回流泵上固定連通有污泥回流管,所述污泥回流管的出泥端延伸至所述缺氧池內(nèi)部;
所述消毒池的內(nèi)部固定有消毒組件,所述消毒組件的進(jìn)水端與所述MBR膜池的產(chǎn)水端之間通過產(chǎn)水管連通,所述產(chǎn)水管上設(shè)有加壓水泵,所述消毒組件的出水端通過出水管與所述貯水池連通;
所述消毒組件包括消毒桶、桶蓋、紫外線消毒件、加藥器、霧化噴頭、氣泵、氣管、轉(zhuǎn)軸、以及葉片;
所述消毒桶的頂部螺接有桶蓋,所述桶蓋的內(nèi)部設(shè)置有紫外線消毒件;
所述產(chǎn)水管的出水端穿過所述消毒桶的左側(cè)壁延伸至所述消毒桶內(nèi)部的上方,且固定連通有霧化噴頭,所述霧化噴頭位于所述紫外線消毒件的下方;
所述消毒桶的內(nèi)部轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)軸,所述轉(zhuǎn)軸上固定有若干葉片,所述葉片位于所述霧化噴頭的下方;
所述消毒桶右側(cè)壁的上方固定有氣泵,所述氣泵的出氣端固定連通有氣管,所述氣管的出氣端穿過所述消毒桶右側(cè)壁延伸至所述消毒桶內(nèi)底部,且向左下方傾斜設(shè)置;
所述消毒桶前側(cè)壁的上方固定有加藥器,所述加藥器的送藥端穿過所述消毒桶的前側(cè)壁延伸至所述消毒桶的內(nèi)部,且位于所述霧化噴頭的上方;
所述紫外線消毒件包括安裝塊、燈管座、卡塊、紫外線燈管;
所述桶蓋內(nèi)部的頂壁上固定若干安裝塊,每個(gè)所述安裝塊的底部均開設(shè)有卡槽;
所述紫外線燈管安裝于所述燈管座,所述燈管座的頂部固定有卡塊,所述卡塊與所述卡槽卡接配合;
所述桶蓋的正中心開設(shè)有圓形孔;
所述紫外線燈管共六個(gè),六個(gè)所述紫外線燈管以所述圓形孔的中心為圓心,呈圓形陣列分布;
所述葉片左下方的所述消毒桶的內(nèi)部固定有弧形板;
所述霧化噴頭向上傾斜設(shè)置,傾斜角度為15°-35°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MBR一體化污水處理設(shè)備,其特征在于:
所述廢氣處理組件包括下層塔體、中層塔體、上層塔體、吸濕層、石灰石層、以及活性炭層;
所述下層塔體和中層塔體螺紋密封連接,所述中層塔體和上層塔體螺紋密封連接;
所述下層塔體內(nèi)填充有吸濕層,所述中層塔體內(nèi)填充有石灰石層,所述上層塔體內(nèi)填充有活性炭層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MBR一體化污水處理設(shè)備,其特征在于:
所述缺氧池內(nèi)設(shè)有緩釋填料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MBR一體化污水處理設(shè)備,其特征在于:
所述好氧池內(nèi)設(shè)有彈性填料,所述彈性填料的下方設(shè)有曝氣設(shè)備。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的MBR一體化污水處理設(shè)備,其特征在于:
所述曝氣設(shè)備包括沉水式鼓風(fēng)機(jī)和曝氣盤;
所述沉水式鼓風(fēng)機(jī)固定于所述好氧池內(nèi)底部,所述沉水式鼓風(fēng)機(jī)的進(jìn)氣端位于所述箱體的外部,所述沉水式鼓風(fēng)機(jī)的出氣端固定連通有曝氣盤,所述曝氣盤位于所述彈性填料的下方。
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