[發明專利]旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法有效
| 申請號: | 202011163942.3 | 申請日: | 2020-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN112331740B | 公開(公告)日: | 2022-06-14 |
| 發明(設計)人: | 廖廣蘭;葉海波;劉智勇;劉星月;張許寧;史鐵林;湯自榮 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0264 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人: | 孫楊柳;李智 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 旋涂 蒸發 步法 無機 鈣鈦礦 太陽能電池 制備 方法 | ||
1.一種旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)在導電基底上制備光陽極層;
(2)在步驟(1)所制備的光陽極層上旋涂PbBr2溶液,并進行退火處理以蒸干溶劑,形成PbBr2層;再通過蒸鍍的方法在PbBr2層上蒸鍍CsBr,并進行退火處理,PbBr2和CsBr相互擴散形成CsPbBr3無機鈣鈦礦層;
所述通過蒸鍍的方法在PbBr2層上蒸鍍CsBr具體為:先將CsBr加熱升華成蒸氣,該蒸氣遇到PbBr2層后在PbBr2表面形成CsBr;
(3)在步驟(2)所形成的CsPbBr3無機鈣鈦礦層上制備空穴傳輸層;
(4)在步驟(3)所制備的空穴傳輸層上印刷導電碳漿料,制備碳對電極層,烘干后即得到無機鈣鈦礦太陽能電池。
2.如權利要求1所述的旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(2)中對PbBr2溶液進行退火的溫度為70℃-90℃,蒸鍍CsBr后進行退火的溫度為200℃-350℃。
3.如權利要求1所述的旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述CsPbBr3無機鈣鈦礦層的厚度為300-400nm。
4.如權利要求1所述的旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述制備光陽極層具體為:旋涂鈦酸異丙酯溶液,并在400℃-500℃條件下進行退火處理,形成光陽極的TiO2層;在該TiO2層上旋涂氯化亞錫或氯化錫溶液,并在180℃-200℃條件下進行退火處理,形成TiO2和SnO2雙層結構光陽極;所述TiO2和SnO2雙層結構光陽極的TiO2層厚度為10-30nm,SnO2層厚度為10-30nm。
5.如權利要求1所述的旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(3)所述制備空穴傳輸層具體為:在CsPbBr3無機鈣鈦礦層上蒸鍍酞菁銅或聚[雙(4-苯基)(2,4,6-三甲基苯基)胺],形成空穴傳輸層;所述空穴傳輸層厚度為20-30nm。
6.如權利要求1所述的旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(4)中導電碳漿料通過絲網印刷成膜鋪設在空穴傳輸層上。
7.如權利要求1所述的旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述碳對電極層的厚度為10-100μm。
8.如權利要求1所述的旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述導電基底為柔性基底。
9.如權利要求8所述的旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述導電基底為鍍有摻氟氧化錫或摻錫氧化銦的玻璃基底。
10.如權利要求1所述的旋涂-蒸發兩步法的無機鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(1)中在制備光陽極層之前,還包括對導電基底進行預處理的步驟,具體為:分別用丙酮和乙醇超聲清洗15-20min,以去除導電基底表面的有機物,然后用去離子水洗凈,最后放入紫外臭氧清洗機中處理30-40min進行表面改性,使得導電基底表面的羥基增加而增強親水性。
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





