[發(fā)明專利]一種便于電解液流動的電化學(xué)加工微振動裝置

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• 申請日: 2020-10-27
• 公開（公告）號: CN112317894A
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王德華
• 申請（專利權(quán)）人: 王德華
• 主分類號: B23H3/00
• 分類號: B23H3/00;B23H11/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明涉及化學(xué)加工技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種便于電解液流動的電化學(xué)加工微振動裝置，包括殼體，所述殼體的內(nèi)部設(shè)置有驅(qū)動桿，所述驅(qū)動桿的表面設(shè)置有槽道，所述驅(qū)動桿的內(nèi)部設(shè)置有支點(diǎn)，所述驅(qū)動桿的下端設(shè)置有固定機(jī)構(gòu)，該便于電解液流動的電化學(xué)加工微振動裝置，通過轉(zhuǎn)盤與轉(zhuǎn)桿的配合使用，齒盤與齒輪一的配合使用，轉(zhuǎn)軸與第一齒輪的配合使用，齒桿一與棘輪一的配合使用，凸盤與驅(qū)動桿的配合使用，可以使工件或加工電極在加工過程中進(jìn)行上下微振動，促進(jìn)工件與加工電極之間電解液的流動，提高了電解液的流動性，保障了工件電解加工過程的穩(wěn)定，防止電解生成物附著在工件的表面，有效提高了工件表面加工的質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及化學(xué)加工技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種便于電解液流動的電化學(xué)加工微振動裝置。

背景技術(shù)

化學(xué)加工是指利用化學(xué)試劑對工件的表面進(jìn)行處理，以獲得一定形狀、尺寸和表面光潔度的方法，化學(xué)加工主要包括化學(xué)銑削、光化學(xué)加工、化學(xué)表面處理和電化學(xué)加工等方法，電化學(xué)加工是利用通電狀態(tài)下的電解液對工件的表面進(jìn)行加工的一種方法。

在使用電化學(xué)加工的方法對工件進(jìn)行加工時，由于工件與加工電極之間的空隙很小，在沒有外部循環(huán)動力的作用下，電解液的流動性很差，易導(dǎo)致電解生成物停留在工件與加工電極之間，影響電解液的特性，造成工件與加工電極之間的電解作用不穩(wěn)定，影響工件的加工精度，同時，電解生成物易附著在工件的表面，影響工件表面的加工質(zhì)量。

為解決以上問題，我們提出了一種便于電解液流動的電化學(xué)加工微振動裝置，具備了工件與加工電極之間的電解液流動性好，電解加工過程穩(wěn)定，電解生成物排出效果好，工件表面加工質(zhì)量高的優(yōu)點(diǎn)，提高了工件電化學(xué)加工的質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容

(一)解決的技術(shù)問題

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種便于電解液流動的電化學(xué)加工微振動裝置，具備工件與加工電極之間的電解液流動性好，電解加工過程穩(wěn)定，電解生成物排出效果好，工件表面加工質(zhì)量高的優(yōu)點(diǎn)，解決了現(xiàn)有工件在進(jìn)行電化學(xué)加工時，電解液流動性不好，電解加工過程不穩(wěn)定，電解生成物易附著在工件表面，工件表面加工質(zhì)量不高的問題。

(二)技術(shù)方案

為實(shí)現(xiàn)上述工件與加工電極之間的電解液流動性好，電解加工過程穩(wěn)定，電解生成物排出效果好，工件表面加工質(zhì)量高的目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種便于電解液流動的電化學(xué)加工微振動裝置，包括殼體，所述殼體的內(nèi)部設(shè)置有驅(qū)動桿，所述驅(qū)動桿的表面設(shè)置有槽道，所述驅(qū)動桿的內(nèi)部設(shè)置有支點(diǎn)，所述驅(qū)動桿的下端設(shè)置有固定機(jī)構(gòu)，所述殼體的內(nèi)部設(shè)置有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤的表面設(shè)置有轉(zhuǎn)桿，所述轉(zhuǎn)桿遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)盤的一端設(shè)置有齒盤，所述齒盤的表面設(shè)置有齒輪一，所述齒輪一的內(nèi)部設(shè)置有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸的表面設(shè)置有凸盤，所述凸盤的內(nèi)部設(shè)置有第一齒輪，所述第一齒輪的表面設(shè)置有齒桿一，所述凸盤的內(nèi)部設(shè)置有棘輪一，所述轉(zhuǎn)軸的表面設(shè)置有推盤，所述推盤的表面設(shè)置有頂塊，所述推盤的內(nèi)部設(shè)置有第二齒輪，所述第二齒輪的表面設(shè)置有齒桿二，所述推盤的內(nèi)部設(shè)置有棘輪二。

優(yōu)選的，所述驅(qū)動桿靠近轉(zhuǎn)軸的一端采用凹型設(shè)計(jì)，與凸盤相適配，表面開設(shè)有滑槽，滑槽內(nèi)部設(shè)計(jì)有緩沖彈簧。

優(yōu)選的，所述槽道與殼體的內(nèi)表面之間為活動連接，側(cè)表面設(shè)計(jì)有復(fù)位彈簧，支點(diǎn)位于驅(qū)動桿表面滑槽的內(nèi)部，滑槽內(nèi)部的緩沖彈簧與支點(diǎn)的表面連接。

優(yōu)選的，所述轉(zhuǎn)盤靠近轉(zhuǎn)桿一側(cè)的表面設(shè)計(jì)有推柱，轉(zhuǎn)桿的表面開設(shè)有滑槽，轉(zhuǎn)盤表面的推柱位于轉(zhuǎn)桿表面滑槽的內(nèi)部。

優(yōu)選的，所述齒盤采用半齒輪設(shè)計(jì)，與齒輪一相適配，與轉(zhuǎn)桿采用同軸設(shè)計(jì)。

優(yōu)選的，所述凸盤與驅(qū)動桿上端的凹型槽相對應(yīng)，第一齒輪與轉(zhuǎn)軸之間為固定連接。

優(yōu)選的，所述齒桿一與凸盤的內(nèi)表面之間為活動連接，表面設(shè)計(jì)有齒面，與第一齒輪相適配，靠近棘輪一的一端設(shè)計(jì)有棘爪，與棘輪一相適配。