[發明專利]一種適用于雙線隧道的聯絡通道結構及其施工方法

有效

• 申請號: 202011158842.1
• 申請日: 2020-10-26
• 公開（公告）號: CN112360499B
• 公開（公告）日: 2022-09-16
• 發明（設計）人: 胡磊;梅江兵;卓旭煬;曹紅林;張志華
• 申請（專利權）人: 中鐵大橋勘測設計院集團有限公司
• 主分類號: E21D9/14
• 分類號: E21D9/14;E21F17/00
• 代理公司: 武漢智權專利代理事務所(特殊普通合伙) 42225
• 代理人: 孟歡

1.一種適用于雙線隧道的聯絡通道結構，其特征在于，所述聯絡通道結構包括：

在上下間隔平行設置的上聯絡通道(1)和下聯絡通道(2)；

與所述上聯絡通道(1)側壁連通的上接口通道(3)；

與所述上接口通道(3)連通，向下傾斜延伸的上層側向通道(4)；

與所述下聯絡通道(2)側壁連通的下接口通道(5)；

與所述下接口通道(5)連通，向上傾斜延伸的下層側向通道(6)；

連通所述上層側向通道(4)與所述下層側向通道(6)連通的中間橫向通道(7)；其中，

所述上接口通道(3)和上層側向通道(4)位于所述上聯絡通道(1)和所述下聯絡通道(2)的一側，所述下接口通道(5)和下層側向通道(6)位于所述上聯絡通道(1)和所述下聯絡通道(2)的另一側；

所述中間橫向通道(7)所在的平面與所述上聯絡通道(1)和所述下聯絡通道(2)所在的平面相互垂直。

2.如權利要求1所述的適用于雙線隧道的聯絡通道結構，其特征在于，在預設的三維坐標系中：

所述上接口通道(3)相對所述上聯絡通道(1)在X軸方向延伸；

所述上層側向通道(4)相對所述上接口通道(3)在Y軸和Z軸方向延伸；

所述下接口通道(5)相對所述下聯絡通道(2)在X軸方向延伸；

所述下層側向通道(6)相對所述下接口通道(5)在Y軸和Z軸方向延伸；

所述中間橫向通道(7)相對所述上層側向通道(4)和所述下層側向通道(6)在X軸和Y軸方向延伸。

3.如權利要求1所述的適用于雙線隧道的聯絡通道結構，其特征在于：

所述上層側向通道(4)所在的平面與所述下層側向通道(6)所在的平面相互平行。

4.如權利要求2所述的適用于雙線隧道的聯絡通道結構，其特征在于：

所述上層側向通道(4)由上至下的延伸方向與所述下層側向通道(6)由下至上的延伸方向相反。

5.如權利要求1所述的適用于雙線隧道的聯絡通道結構，其特征在于：

所述上層側向通道(4)所在的平面、所述下層側向通道(6)所在的平面以及所述上聯絡通道(1)和所述下聯絡通道(2)所在的平面相互平行。

6.如權利要求1所述的適用于雙線隧道的聯絡通道結構，其特征在于：

所述上接口通道(3)與所述下接口通道(5)水平設置。

7.如權利要求1所述的適用于雙線隧道的聯絡通道結構，其特征在于：

所述上聯絡通道(1)內設置上層疏散平臺面(10)；

所述下聯絡通道(2)內設置下層疏散平臺面(20)；

所述上層疏散平臺面(10)與所述下層疏散平臺面(20)的高度差記作ΔH，ΔH＝H1-H4≥1D+0.4D+h+0.4D＝1.8D+h；其中，

H1為上層疏散平臺面標高，H4為下層疏散平臺面標高，D為所述上聯絡通道(1)和所述下聯絡通道(2)的單線隧道外徑，h為所述中間橫向通道(7)標準段結構高度。

8.如權利要求1所述的適用于雙線隧道的聯絡通道結構，其特征在于：

中間橫向通道(7)下穿或上跨區間隧道的結構垂直凈距不小于0.4D，且不小于2.5m。

9.如權利要求1所述的適用于雙線隧道的聯絡通道結構，其特征在于：

所述上聯絡通道(1)、所述下聯絡通道(2)、所述上接口通道(3)、所述上層側向通道(4)、所述下接口通道(5)、所述下層側向通道(6)以及所述中間橫向通道(7)均配置成拱形斷面，上半部分為半圓形，下半部分為矩形。

10.一種根據權利要求1～9任一項所述的適用于雙線隧道的聯絡通道結構的施工方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

在所述上聯絡通道(1)側壁挖掘一上接口通道(3)，并且在下聯絡通道(2)側壁挖掘一下接口通道(5)；

在所述上接口通道(3)的端部向下傾斜挖掘一上層側向通道(4)，并且在所述下接口通道(5)的端部向上傾斜挖掘一下層側向通道(6)；

挖掘一連通所述上層側向通道(4)與所述下層側向通道(6)的中間橫向通道(7)；其中，

所述上聯絡通道(1)和所述下聯絡通道(2)上下間隔平行設置；

所述上接口通道(3)和上層側向通道(4)位于所述上聯絡通道(1)側壁的一側，所述下接口通道(5)和下層側向通道(6)位于所述下聯絡通道(2)側壁的另一側；

所述中間橫向通道(7)所在的平面與所述上聯絡通道(1)和所述下聯絡通道(2)所在的平面相互垂直。