[發明專利]一種電沉積鈷基復合鍍層的制備方法在審
| 申請號： | 202011158658.7 | 申請日： | 2020-10-26 |
| 公開（公告）號： | CN112226805A | 公開（公告）日： | 2021-01-15 |
| 發明（設計）人： | 章德銘;張鑫;劉建明;王帥;黃凌峰;劉通;郭丹 | 申請（專利權）人： | 礦冶科技集團有限公司;北礦新材科技有限公司 |
| 主分類號： | C25D15/00 | 分類號： | C25D15/00;C25D3/12;C25D5/18;C25D5/50 |
| 代理公司： | 北京博智杰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11929 | 代理人： | 尹春雷 |
| 地址： | 100160 北京市豐臺區*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 沉積 復合 鍍層 制備 方法 | ||
1.一種電沉積鈷基復合鍍層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
（1）配制復合鍍液，復合鍍液由硫酸鈷、氯化鈷、硼酸、磷酸、表面活性劑和水配制而成；
（2）將預處理后的陶瓷粉末加入復合鍍液，攪拌，使粉末均勻分散在鍍液中；
（3）采用脈沖電流和雙電極平行裝置進行復合電沉積，將清洗干凈的鈷板作為陽極，待鍍工件為陰極，在待鍍工件表面形成鈷基復合鍍層。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，還包括步驟（4）：
（4）將形成鈷基復合鍍層的工件進行熱處理。
3.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，步驟（1）所述復合鍍液的成分為：CoSO4·7H2O：400-550g/ L；CoCl2·6H2O：20-60g/ L；H3BO3：30-50g/ L；H3PO4：80-100g/ L，表面活性劑0.1-0.2g/ L。
4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述表面活性劑為十二烷基磺酸鈉或苯磺酸鈉。
5.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，步驟（2）所述陶瓷粉末為Cr3C2或SiC，粉末粒度為3-10μm。
6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，鍍液中Cr3C2或SiC的加入量為5-20g/L。
7.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，步驟（3）所述復合電沉積的條件為：陰極電流密度1-8A/dm2，溫度40-70℃，攪拌轉速400-500rpm，鍍液pH值2.0-2.5，沉積時間120-200min。
8.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，步驟（3）所形成的鈷基復合鍍層為50-140μm。
9.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，步驟（4）所述熱處理，具體為：將工件升溫到500-700℃，保溫1-3h。
10.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，步驟（2）所述預處理為：將陶瓷粉末表面清潔，然后在十二烷基磺酸鈉或十二烷基苯磺酸鈉溶液中浸泡活化。
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