[發(fā)明專利]膜層結(jié)構(gòu)及其制備方法、顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011158348.5
• 申請日: 2020-10-26
• 公開（公告）號: CN112271266B
• 公開（公告）日: 2023-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳琦鶴;高昕偉;李朋;李偉
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥京東方卓印科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: H10K50/844
• 分類號: H10K50/844;H10K71/00
• 代理公司: 北京市立方律師事務(wù)所 11330
• 代理人: 張筱寧;宋海斌

本申請實施例提供了一種膜層結(jié)構(gòu)及其制備方法、顯示面板和顯示裝置，膜層結(jié)構(gòu)的制備方法包括：在器件層的一側(cè)制作第一平坦層，第一平坦層具有與器件層的第一凸起結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的第二凸起中間結(jié)構(gòu)；在第一平坦層遠(yuǎn)離器件層的一側(cè)制作第二平坦中間結(jié)構(gòu)，且第二平坦中間結(jié)構(gòu)的刻蝕速度小于第一平坦層的刻蝕速度；對第二平坦中間結(jié)構(gòu)和第二凸起中間結(jié)構(gòu)進(jìn)行刻蝕，得到第二平坦結(jié)構(gòu)和第二凸起結(jié)構(gòu)，第二凸起結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離器件層的一側(cè)與第二平坦結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離器件層的一側(cè)平齊。本申請實施例采用的膜層結(jié)構(gòu)的制備方法可以簡化膜層平坦化的制備工藝過程，無需耗費昂貴的掩模版，并且可以全面地同時進(jìn)行刻蝕，極大地降低了成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，本申請涉及一種膜層結(jié)構(gòu)及其制備方法、顯示面板和顯示裝置。

背景技術(shù)

在顯示產(chǎn)品的制造過程中，涉及到的膜層結(jié)構(gòu)制備工藝非常常見，其中平坦層的平整度往往不足，這會導(dǎo)致顯示面板的發(fā)光效率低下、或產(chǎn)生色偏、或壽命過短等問題。

發(fā)明內(nèi)容

本申請針對現(xiàn)有方式的缺點，提出一種膜層結(jié)構(gòu)及其制備方法、顯示面板和顯示裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)存在的膜層結(jié)構(gòu)制備工藝中平坦層的平整度不足的問題。

第一個方面，本申請實施例提供了一種膜層結(jié)構(gòu)，包括依次層疊的器件層、第一平坦層和第二平坦結(jié)構(gòu)；

第二平坦結(jié)構(gòu)的刻蝕速度小于第一平坦層的刻蝕速度；

第一平坦層遠(yuǎn)離器件層的一側(cè)，具有與器件層的第一凸起結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的第二凸起結(jié)構(gòu)；

第二平坦結(jié)構(gòu)具有與第二凸起結(jié)構(gòu)相適應(yīng)的鏤空，第二凸起結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離器件層的一側(cè)與第二平坦結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離器件層的一側(cè)平齊。

第二個方面，本申請實施例提供了一種顯示面板，包括上述第一個方面提供的膜層結(jié)構(gòu)。

第三個方面，本申請實施例提供了一種顯示裝置，包括：上述第一個方面提供的膜層結(jié)構(gòu)；或，上述第二個方面提供的顯示面板。

第四個方面，本申請實施例還提供一種膜層結(jié)構(gòu)的制備方法，包括：

在器件層的一側(cè)制作第一平坦層，第一平坦層具有與器件層的第一凸起結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的第二凸起中間結(jié)構(gòu)；

在第一平坦層遠(yuǎn)離器件層的一側(cè)制作第二平坦中間結(jié)構(gòu)，且第二平坦中間結(jié)構(gòu)的刻蝕速度小于第一平坦層的刻蝕速度；

對第二平坦中間結(jié)構(gòu)和第二凸起中間結(jié)構(gòu)進(jìn)行刻蝕，得到第二平坦結(jié)構(gòu)和第二凸起結(jié)構(gòu)，第二凸起結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離器件層的一側(cè)與第二平坦結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離器件層的一側(cè)平齊。

本申請實施例提供的膜層結(jié)構(gòu)、顯示面板和顯示裝置帶來的有益技術(shù)效果包括：器件層、第一平坦層和第二平坦結(jié)構(gòu)依次層疊設(shè)置，刻蝕速度不同的第一平坦層和第二平坦結(jié)構(gòu)通過刻蝕速率差而在刻蝕過程中某一時刻達(dá)到相同的厚度，即第二平坦結(jié)構(gòu)與第二凸起結(jié)構(gòu)相接處高度平齊。采用前述膜層結(jié)構(gòu)的設(shè)置可以使用更加簡便的平坦化的制備工藝，無需使用昂貴的掩模版，僅通過控制兩層刻蝕速率不同的平坦層的刻蝕時間，即可將凹凸不平的器件層平坦化，得到平整度很好的平坦層，進(jìn)而可以提高發(fā)光器件的發(fā)光效率，有效減少色偏現(xiàn)象，還可延長器件壽命。

本申請實施例提供的膜層結(jié)構(gòu)的制備方法帶來的有益技術(shù)效果包括：在器件層的一側(cè)制作第一平坦層，在第一平坦層的另一側(cè)制作第二平坦中間結(jié)構(gòu)，由于第二平坦中間結(jié)構(gòu)的刻蝕速度小于第一平坦層的刻蝕速度，則位于器件層和第二平坦結(jié)構(gòu)中間的第一平坦層刻蝕速度快一些，同一時間內(nèi)刻蝕的膜厚厚于刻蝕掉的第二平坦結(jié)構(gòu)，由此在某一時刻第二平坦結(jié)構(gòu)與第一平坦層相接處平齊，進(jìn)而得到平整度更好的平坦層。該方法使刻蝕過程簡便，成本低，無需耗費昂貴的掩模版，僅僅控制刻蝕時間即可獲得較高平整度的平坦層面，并且利用平坦層刻蝕工藝可以全面地同時進(jìn)行刻蝕。

本申請附加的方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，這些將從下面的描述中變得明顯，或通過本申請的實踐了解到。

附圖說明