[發(fā)明專利]一種可提高鍍膜均勻度的鍍膜裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011155291.3
• 申請(qǐng)日: 2020-10-26
• 公開（公告）號(hào): CN112267096A
• 公開（公告）日: 2021-01-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天長(zhǎng)市石峰玻璃有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/30
• 分類號(hào): C23C14/30;C23C14/54
• 代理公司: 合肥律眾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34147
• 代理人: 龍海麗

1.一種可提高鍍膜均勻度的鍍膜裝置，包括機(jī)箱密封門、托盤和帶動(dòng)托盤在機(jī)箱密封門內(nèi)垂直移動(dòng)的電動(dòng)伸縮桿，所述電動(dòng)伸縮桿的輸出端與端板相連，端板連接在托盤的端頭且位于托盤的內(nèi)腔，特征在于：所述托盤上間距安裝有坩堝，且托盤的底部安裝有使坩堝的尺寸可調(diào)節(jié)的底調(diào)節(jié)板，所述底調(diào)節(jié)板經(jīng)傳動(dòng)連板與電動(dòng)伸縮桿相連，且傳動(dòng)連板上安裝有驅(qū)動(dòng)設(shè)備，所述驅(qū)動(dòng)設(shè)備的輸出端連接有從動(dòng)板，所述從動(dòng)板與底調(diào)節(jié)板相連。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可提高鍍膜均勻度的鍍膜裝置，其特征在于：所述驅(qū)動(dòng)設(shè)備的數(shù)量為兩個(gè)，且兩個(gè)驅(qū)動(dòng)設(shè)備的輸出端分別位于底調(diào)節(jié)板的左右兩側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的可提高鍍膜均勻度的鍍膜裝置，其特征在于：所述坩堝的左右兩端均為傾斜狀，兩個(gè)坩堝的底端分別向托盤的中部?jī)A斜，在坩堝的腔底成斜坡狀。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可提高鍍膜均勻度的鍍膜裝置，其特征在于：每?jī)蓚€(gè)相鄰的坩堝之間均安裝有一個(gè)集流板，所述集流板的左右兩側(cè)分別向著兩側(cè)的坩堝成傾斜狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可提高鍍膜均勻度的鍍膜裝置，其特征在于：所述電動(dòng)伸縮桿的數(shù)量為兩個(gè)，且兩個(gè)電動(dòng)伸縮桿之間經(jīng)傳動(dòng)帶板與傳動(dòng)連板相連，所述傳動(dòng)連板與底調(diào)節(jié)板的相對(duì)面之間間距安裝。