[發明專利]光學系統、攝像模組和電子設備

在審

• 申請號: 202011153033.1
• 申請日: 2020-10-23
• 公開（公告）號: CN112198643A
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發明（設計）人: 華露;楊健;李明
• 申請（專利權）人: 江西晶超光學有限公司
• 主分類號: G02B15/14
• 分類號: G02B15/14;G03B11/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強

1.一種光學系統，其特征在于，沿光軸方向由物側至像側依次包含：

第一透鏡組，具有正屈折力，所述第一透鏡組包括第一透鏡；

第二透鏡組，具有負屈折力，所述第二透鏡組包括第二透鏡、第三透鏡和第四透鏡；

第三透鏡組，具有正屈折力，所述第三透鏡組包括第五透鏡、第六透鏡、第七透鏡和第八透鏡；

所述第一透鏡組、所述第二透鏡組以及所述第三透鏡組之間的距離可調節，以使所述光學系統處于長焦端、中焦端以及短焦端，所述光學系統處于長焦端、中焦端以及短焦端的焦距不同；

所述光學系統滿足條件式：-70fg2/AT24-10，其中，fg2為所述第二透鏡組的焦距，AT24為第二透鏡組中各相鄰透鏡之間于光軸上的空氣間隔的總和。

2.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：fc/fd1.3，其中，fc為所述光學系統處于長焦端的焦距，fd為所述光學系統處于短焦端的焦距。

3.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統還包括濾光片，置于所述第八透鏡至成像面之間，所述光學系統滿足條件式：TTL/(D1+D2+D3)2.6，其中，TTL為所述第一透鏡物側面至光學系統成像面于光軸上的距離，D1為所述第一透鏡物側面至所述第二透鏡像側面于光軸上的距離，D2為所述第四透鏡像側面至所述第五透鏡物側面于光軸上的距離，D3為所述濾光片像側面至成像面于光軸上的距離。

4.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：(g1+g2+g3)/fd0.9，其中，g1為所述第一透鏡物側面到所述第一透鏡像側面于光軸上的距離，g2為所述第二透鏡物側面到所述第四透鏡像側面于光軸上的距離，g3為所述第五透鏡物側面到所述第七透鏡像側面于光軸上的距離，fd為所述光學系統處于短焦端的焦距。

5.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：FNOc/FNOd1.6，其中，FNOc為所述光學系統處于長焦端的光圈數，FNOd為所述光學系統處于短焦端的光圈數。

6.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：1fg1/fc8，其中，fg1為所述第一透鏡組的焦距，fc為所述光學系統處于長焦端的焦距。

7.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：0.8fg3/|R15-R16|1.5，其中，fg3為所述第三透鏡組的焦距，R15為所述第八透鏡物側面于光軸處的曲率半徑，R16為所述第八透鏡像側面于光軸處的曲率半徑。

8.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：1f3/fg25，其中，f3為所述第三透鏡的焦距，fg2為所述第二透鏡組的焦距。

9.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：sdmax/sdmin1.55，其中，sdmax為所述第一透鏡至所述第八透鏡物側面及像側面的最大有效半徑中的最大值，sdmin為所述第一透鏡至所述第八透鏡物側面及像側面的最大有效半徑中的最小值。

10.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：1.2g2/∑etg21.8，其中，g2為所述第二透鏡物側面到所述第四透鏡像側面于光軸上的距離，∑etg2為第二透鏡組各鏡片邊緣厚度的總和。

11.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：BFc/ImgH3.5，其中，BFc為所述光學系統處于長焦端時，第八透鏡的像側面至成像面的最小軸向距離，ImgH為成像面有效像素區域對角線長的一半。