[發明專利]自修復防霧涂層及其制備方法

在審

• 申請號: 202011151620.7
• 申請日: 2020-10-26
• 公開（公告）號: CN114479598A
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 傅佳駿;沈濤;王成
• 申請（專利權）人: 南京理工大學
• 主分類號: C09D133/16
• 分類號: C09D133/16;C09D7/63;C09D5/14;C08F220/24;C08F220/38;C09K3/18
• 代理公司: 南京理工大學專利中心 32203
• 代理人: 劉海霞

1.自修復防霧涂層的制備方法，其特征在于，具體步驟如下：

步驟1，制備兩性離子SBMA：將甲基丙烯酸二甲氨基乙酯和1,3-丙磺酸內酯溶于丙酮中，在氮氣氣氛中于室溫下避光反應，反應結束后，在無水乙醚中析出，28～30℃真空干燥得到兩性離子SBMA；

步驟2，制備共聚物HFBM-co-SBMA：將SBMA、HFBM和AIBN溶于DMSO中，凍融除氧，再在70～80℃下反應，反應結束后，在純水中析出，過濾洗滌，干燥，得到共聚物HFBM-co-SBMA，其中SBMA與HFBM的摩爾比為1:9～3:7；

步驟3，制備功能化涂層：將共聚物HFBM-co-SBMA與1-乙基-3-甲基咪唑二(三氟甲基磺酰)亞胺鹽離子液體溶于DMF中，均勻地涂在玻璃片表面，梯度升溫至80℃干燥，得到自修復防霧涂層。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟1中，所述的甲基丙烯酸二甲氨基乙酯與1,3-丙磺酸內酯的摩爾比為1:1～1:1.5。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟1中，甲基丙烯酸二甲氨基乙酯和1,3-丙磺酸內酯分別溶于丙酮中，隨后在氮氣氣氛下將1,3-丙磺酸內酯溶液逐滴滴加至甲基丙烯酸二甲氨基乙酯溶液中。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟1中，避光反應時間為48小時；步驟2中，反應時間為48小時，所述的干燥為先在80～85℃下烘干24小時，再在75℃下真空干燥48小時。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟2中，AIBN預先在60℃水浴中提純。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟2中，所述的AIBN用量為總質量的2％～5％，所述的總質量為SBMA和HFBM的質量總和。

7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟2中，所述的凍融除氧為使用液氮將反應混合液進行冷凍，然后室溫下自然融化，重復三次以完全除去混合液中的溶解氧。

8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟3中，所述的離子液體質量為總質量的25％～30％，所述的總質量為共聚物HFBM-co-SBMA與1-乙基-3-甲基咪唑二(三氟甲基磺酰)亞胺鹽離子液體的質量的總和。

9.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟3中，將共聚物HFBM-co-SBMA與1-乙基-3-甲基咪唑二(三氟甲基磺酰)亞胺鹽離子液體溶于DMF后，將混合液進行離心，除去氣泡及雜質。

10.根據權利要求1至9任一所述的制備方法制得的自修復防霧涂層。