[發明專利]一種極低量氫氣吸附與解析的測量方法

在審

• 申請號: 202011150473.1
• 申請日: 2020-10-24
• 公開（公告）號: CN112326500A
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: 王廣華;祝妍;王廣飛;馬凱成;楊事成
• 申請（專利權）人: 安徽伯華氫能源科技有限公司
• 主分類號: G01N7/00
• 分類號: G01N7/00
• 代理公司: 北京高航知識產權代理有限公司 11530
• 代理人: 李浩

1.一種極低量氫氣吸附與解析的測量方法，其特征在于，利用氫的同位素-氚取代部分氫元素，進行放射性測量，所述測量方法基于一種極低量的氫氣吸附與解析測量系統實現，所述的測量系統包括提供氚源的混合氣體儲存鋼瓶，其后接有減壓閥、針閥、三通閥、定標容器、高精度壓力計、循環泵、單向閥，吸氫反應容器、測量電離室、數據讀取與存儲系統和放射性包容系統。

2.根據權利要求1所述的極低量氫氣吸附與解析的測量方法，其特征在于，多級氚源儲存鋼瓶為耐壓容器，根據填充壓力采用相應的耐壓規格，其內填充有一定濃度的HT和H₂混合氣體，其中HT和H₂ 為反應氣體，用于測量待測物體的吸氫反應，平衡氣體一般為惰性氣體，如氮氣，氬氣等，其中，HT的濃度含量較低，一般可根據需求設置為ppm級別（對應的放射性活度為4.7×10⁴Bq/L）；H₂的濃度根據所測試對象工作環境，設置為100ppm~4%，其上設置有截止閥，用于充放混合氣體，為防止發生氫脆現象，材質采用316L或者哈氏N合金，表面鍍膜處理。

3.根據權利要求1所述的極低量氫氣吸附與解析的測量方法，其特征在于，所述定標容器的體積一般設置為1-100ml范圍，利用定標容器與三通閥TV1和針閥-NV2之間的體積v，標定不同氣體量n和壓力計示數P1的曲線關系。

4.根據權利要求1所述的極低量氫氣吸附與解析的測量方法，其特征在于，所述的吸氫反應容器-C2，其內部設置有電阻絲，可對內部置于其中的吸氫材料進行加熱；其開口部分設置為航空插頭，電源線、信號線通過航空插頭與外界連接；通過三通閥TV3和三通閥TV4直接連接可實現對吸氫反應器-C2的短路。

5.根據權利要求1所述的極低量氫氣吸附與解析的測量方法，其特征在于，所述的測量電離室IC為流氣式電離室，其測量室、氣路連接件具密封性能；具有差分功能，可排除本底放射性的干擾。

6.根據權利要求1所述的極低量氫氣吸附與解析的測量方法，其特征在于，所述的放射性包容系統設置有手套箱，手套箱內設置有負壓風機，過濾器，氣體連接管線，進出氣口，可視視窗，操作臺，航空插頭，操作手套，負壓壓力計，物品進出口等。

7.根據權利要求1所述的極低量的氫氣吸附與解析測量系統，其特征在于，還包括針閥，三通閥，高精度壓力計，循環泵，外接電源，信號讀取與存儲系統。