[發(fā)明專利]粒子動(dòng)畫處理方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及計(jì)算機(jī)設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011148909.3
• 申請(qǐng)日: 2020-10-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112215932A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭超;宋昱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 網(wǎng)易（杭州）網(wǎng)絡(luò)有限公司
• 主分類號(hào): G06T13/80
• 分類號(hào): G06T13/80
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 遠(yuǎn)明

1.一種粒子動(dòng)畫處理方法，其特征在于，包括：

獲取待處理粒子幀中的多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的像素著色器，得到多個(gè)所述像素著色器；

基于所述多個(gè)像素著色器，計(jì)算所述待處理粒子幀中的所述多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)；

根據(jù)所述屬性參數(shù)生成所述待處理粒子幀的二維紋理；

基于頂點(diǎn)紋理拾取技術(shù)從所述二維紋理中確定所述多個(gè)粒子的顯示信息；

根據(jù)所述顯示信息生成所述待處理粒子幀的粒子動(dòng)畫。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粒子動(dòng)畫處理方法，其特征在于，所述基于所述多個(gè)像素著色器，計(jì)算待處理粒子幀中的所述多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)，包括：

根據(jù)所述待處理粒子幀的上一粒子幀對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)，利用所述多個(gè)像素著色器計(jì)算所述待處理粒子幀中的所述多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的粒子動(dòng)畫處理方法，其特征在于，所述根據(jù)所述待處理粒子幀的上一粒子幀對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)，利用所述多個(gè)像素著色器計(jì)算所述待處理粒子幀中的所述多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)，包括：

利用所述多個(gè)像素著色器，根據(jù)所述待處理粒子幀的上一粒子幀對(duì)應(yīng)的所述屬性參數(shù)和預(yù)設(shè)粒子觸發(fā)條件對(duì)應(yīng)的初始屬性參數(shù)，計(jì)算所述待處理粒子幀中的所述多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的粒子動(dòng)畫處理方法，其特征在于，所述利用所述多個(gè)像素著色器，根據(jù)所述上一粒子幀對(duì)應(yīng)的所述屬性參數(shù)和所述預(yù)設(shè)粒子觸發(fā)條件對(duì)應(yīng)的初始屬性參數(shù)，計(jì)算所述待處理粒子幀中的所述多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)，包括：

獲取所述上一粒子幀對(duì)應(yīng)的游戲場(chǎng)景中虛擬對(duì)象的瞬時(shí)變化信息；

根據(jù)所述瞬時(shí)變化信息生成所述上一粒子幀對(duì)應(yīng)的矢量場(chǎng)；

利用所述多個(gè)像素著色器，根據(jù)所述上一粒子幀對(duì)應(yīng)的所述屬性參數(shù)、所述預(yù)設(shè)粒子觸發(fā)條件對(duì)應(yīng)的初始屬性參數(shù)、以及所述矢量場(chǎng)，計(jì)算所述待處理粒子幀中的所述多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粒子動(dòng)畫處理方法，其特征在于，在獲取待處理粒子幀中的多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的像素著色器之前，還包括：

根據(jù)所述待處理粒子幀的上一粒子幀對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)和預(yù)設(shè)粒子觸發(fā)條件，確定所述上一粒子幀中即將死亡的粒子和/或待新建的粒子；

根據(jù)所述上一粒子幀、所述即將死亡的粒子和/或所述待新建的粒子，確定所述待處理粒子幀中的多個(gè)粒子。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粒子動(dòng)畫處理方法，其特征在于，當(dāng)所述待處理粒子幀為多個(gè)粒子幀時(shí)，所述根據(jù)所述屬性參數(shù)生成所述待處理粒子幀的二維紋理，包括：

確定所述多個(gè)粒子幀中每個(gè)粒子幀的顯示順序；

根據(jù)所述顯示順序確定所述每個(gè)粒子幀在二維紋理中的排列順序；

按照所述排列順序，將所述每個(gè)粒子幀對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)存儲(chǔ)在所述二維紋理中。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的粒子動(dòng)畫處理方法，其特征在于，所述顯示信息包括運(yùn)動(dòng)軌跡，所述基于頂點(diǎn)紋理拾取技術(shù)從所述二維紋理中確定所述多個(gè)粒子的顯示信息，包括：

基于頂點(diǎn)紋理拾取技術(shù)從所述二維紋理中獲取所述多個(gè)粒子對(duì)應(yīng)的所述屬性參數(shù)；

將所述屬性參數(shù)輸入頂點(diǎn)著色器中，以計(jì)算出所述多個(gè)粒子的運(yùn)動(dòng)軌跡。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粒子動(dòng)畫處理方法，其特征在于，當(dāng)所述待處理粒子幀為單個(gè)粒子幀時(shí)，所述根據(jù)所述屬性參數(shù)生成所述待處理粒子幀的二維紋理，包括：

確定所述單個(gè)粒子幀中每個(gè)粒子所屬的特效類型；

根據(jù)所述特效類型將所述單個(gè)粒子幀對(duì)應(yīng)的屬性參數(shù)存儲(chǔ)在二維紋理中，其中，不同所述特效類型的粒子的屬性參數(shù)存儲(chǔ)在所述二維紋理中的不同區(qū)域。