[發明專利]一種阻垢裝置、烹飪設備及其控制方法

在審

• 申請號: 202011146028.8
• 申請日: 2020-10-23
• 公開（公告）號: CN112299573A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 王琦;高寧;彭錦宇;潘葉江
• 申請（專利權）人: 華帝股份有限公司
• 主分類號: C02F5/10
• 分類號: C02F5/10;C02F5/00;C02F9/04;A47J37/06;A47J36/42;A47J36/00;A47J27/04;C02F103/04
• 代理公司: 中山奇昱專利代理事務所(普通合伙) 44557
• 代理人: 黃國清

1.一種阻垢裝置，包括外殼(1)，所述外殼(1)的兩端分別設有進水口(10)和出水口(11)，所述進水口(10)和所述出水口(11)上均設有水管接頭，其特征在于，還包括：

第一濾網(2)，其固定設置在所述外殼(1)內并位于所述進水口(10)下側；

活動模塊(3)，其活動設置在所述外殼(1)內并位于所述出水口(11)一側，所述活動模塊(3)可沿進水口(10)或出水口(11)方向移動；

第二濾網(4)，其固定設置在所述活動模塊(3)上；

阻垢顆粒(5)，其設置在所述第一濾網(2)與所述第二濾網(4)之間；

電感彈簧(6)，其設置在第二濾網(4)與所述外殼(1)靠近所述出水口(11)的一側之間；

控制器,其包括電感檢測模塊，所述電感檢測模塊與所述電感彈簧(6)電連接。

2.根據權利要求1所述的阻垢裝置，其特征在于，所述活動模塊(3)包括分別設置在所述外殼(1)內部兩側的導向槽(30)，以及設置在所述導向槽(30)內的移動塊(31)，所述第二濾網(4)設置在兩所述移動塊(31)之間。

3.根據權利要求1所述的阻垢裝置，其特征在于，所述阻垢顆粒(5)為聚合物成分，至少包括強酸性基團-SO3H、弱酸性基團-COOH、羥基-OH中的一種。

4.根據權利要求1所述的阻垢裝置，其特征在于，所述第一濾網(2)與所述第二濾網(4)的孔徑均大于50目。

5.根據權利要求4所述的阻垢裝置，其特征在于，所述第一濾網(2)的孔徑大于所述第二濾網(4)的孔徑。

6.根據權利要求1至5任意一項所述的阻垢裝置，其特征在于，在所述外殼(1)上設有可觀察所述阻垢顆粒(5)的透明視窗(50)，在所述透明視窗(50)設有投料口(51)。

7.根據權利要求6所述的阻垢裝置，其特征在于，所述投料口(51)上通過導管連接有自動投料盒。

8.一種烹飪設備，包括通過管路依次連通的腔體(7)、蒸發器(70)、水泵(71)以及儲水箱(72)，其特征在于，所述儲水箱(72)與所述水泵(71)之間的管路上連通有如權利要求1至7任意一項所述的阻垢裝置，所述儲水箱(72)的出水高度高于所述阻垢裝置的進水高度。

9.一種如權利要求8所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1：在蒸模式、蒸烤模式烹飪前或結束后啟動所述水泵(71)將所述阻垢裝置內的水排出；

S2：啟動電感檢測模塊；

S3：根據電感檢測模塊檢測的電感變化量ΔL是否超過預設限值，若否，則返回步驟S1；若是，則通過所述控制器發出提示信號或控制自動投料盒添加阻垢顆粒到達設定量；

S4：檢測當前電感值L1，并根據預設限值計算下一次需要添加阻垢顆粒時的電感值L2。

10.根據權利要求9所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，所述電感值的計算公式為：

L＝NΦ/I,其中L為電感，N為匝數，Φ為磁通量，I為電流；

Φ＝μNIS/l,其中μ為磁導率，S為磁路截面積，l為磁路總長度。