[發(fā)明專利]顯示裝置及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011145681.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112201671B | 公開(公告)日: | 2022-11-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高秉詳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 業(yè)成科技(成都)有限公司;業(yè)成光電(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/15 | 分類號(hào): | H01L27/15;H01L27/32 |
| 代理公司: | 成都希盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51226 | 代理人: | 楊冬梅;張行知 |
| 地址: | 611730 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
一種顯示裝置包括可撓性基板、復(fù)合導(dǎo)電層、導(dǎo)電粒子膠層及半導(dǎo)體發(fā)光元件。復(fù)合導(dǎo)電層設(shè)置于可撓性基板上,其中復(fù)合導(dǎo)電層包括相疊合的透明導(dǎo)電膜及金屬保護(hù)膜。導(dǎo)電粒子膠層設(shè)置于復(fù)合導(dǎo)電層上。半導(dǎo)體發(fā)光元件設(shè)置于導(dǎo)電粒子膠層上,且半導(dǎo)體發(fā)光元件經(jīng)由導(dǎo)電粒子膠層電性連接復(fù)合導(dǎo)電層。金屬保護(hù)膜避免透明導(dǎo)電層受到導(dǎo)電粒子膠層中的導(dǎo)電粒子壓迫而產(chǎn)生裂痕或破裂,進(jìn)而提升顯示裝置的強(qiáng)度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種顯示裝置及其制造方法,特別是指半導(dǎo)體顯示裝置及其制造方法。
背景技術(shù)
隨著科技的進(jìn)步,光學(xué)產(chǎn)品不間斷地推陳出新,而顯示裝置已經(jīng)成為光電產(chǎn)業(yè)中眾所矚目的焦點(diǎn)之一。
為了達(dá)成特殊曲率并具有高可靠度的產(chǎn)品,須搭配相關(guān)的成型技術(shù)以制造顯示裝置,但在成型過程中或?qū)嶋H使用顯示裝置時(shí),若成型過程搭配有拉伸制程或擠壓、撞擊到顯示裝置,可能會(huì)因?yàn)椴牧媳旧淼奶匦曰虍a(chǎn)品的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不良使顯示裝置的部分元件發(fā)生斷裂,而導(dǎo)致顯示裝置無法運(yùn)作。
因此,光電產(chǎn)業(yè)的多個(gè)民營企業(yè)或相關(guān)學(xué)研單位已經(jīng)投注大量資金、人力和時(shí)間對(duì)顯示裝置進(jìn)行研究,并亟欲改善顯示裝置的各種特性。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明之一目的在于提出一種可有解決上述問題的顯示裝置,其包括可撓性基板、復(fù)合導(dǎo)電層、導(dǎo)電粒子膠層及半導(dǎo)體發(fā)光元件。復(fù)合導(dǎo)電層設(shè)置于可撓性基板上,其中復(fù)合導(dǎo)電層包括相疊合的透明導(dǎo)電膜及金屬保護(hù)膜,且導(dǎo)電粒子膠層設(shè)置于復(fù)合導(dǎo)電層上。除此之外,半導(dǎo)體發(fā)光元件設(shè)置于導(dǎo)電粒子膠層上,且半導(dǎo)體發(fā)光元件是經(jīng)由導(dǎo)電粒子膠層電性連接至復(fù)合導(dǎo)電層。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,金屬保護(hù)膜設(shè)置于透明導(dǎo)電膜與導(dǎo)電粒子膠層之間。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,金屬保護(hù)膜設(shè)置于可撓性基板與透明導(dǎo)電膜之間。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,復(fù)合導(dǎo)電層包括兩個(gè)金屬保護(hù)膜,且透明導(dǎo)電膜設(shè)置于兩個(gè)金屬保護(hù)膜之間。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,導(dǎo)電粒子膠層包括復(fù)數(shù)導(dǎo)電粒子及導(dǎo)電膠,其中導(dǎo)電膠圍繞導(dǎo)電粒子。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,導(dǎo)電粒子膠層包括導(dǎo)電通道,導(dǎo)電通道連接半導(dǎo)體發(fā)光元件及復(fù)合導(dǎo)電層。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,金屬保護(hù)膜的厚度介于15nm至20nm之間。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,金屬保護(hù)膜的材料包括金、銀、銅、鋁、鉑或其合金。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,金屬保護(hù)膜的導(dǎo)電率大于透明導(dǎo)電膜的導(dǎo)電率。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,金屬保護(hù)膜的硬度大于透明導(dǎo)電膜的硬度。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種顯示裝置的制造方法,其包括:在可撓性基板上形成復(fù)合導(dǎo)電層,其中復(fù)合導(dǎo)電層包括相疊合的透明導(dǎo)電膜及金屬保護(hù)膜;在復(fù)合導(dǎo)電層上形成導(dǎo)電粒子膠層;以及將半導(dǎo)體發(fā)光元件壓合在導(dǎo)電粒子膠層上,使得半導(dǎo)體發(fā)光元件電性連接復(fù)合導(dǎo)電層。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,金屬保護(hù)膜設(shè)置于透明導(dǎo)電膜與導(dǎo)電粒子膠層之間。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,金屬保護(hù)膜設(shè)置于可撓性基板與透明導(dǎo)電膜之間。
在本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式中,在可撓性基板上形成復(fù)合導(dǎo)電層的步驟更包括:在可撓性基板上形成第一金屬保護(hù)膜;在第一金屬保護(hù)膜上形成透明導(dǎo)電膜;以及在透明導(dǎo)電膜上形成第二金屬保護(hù)膜。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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