[發明專利]氣體供給系統、基板處理裝置和氣體供給系統的控制方法

在審

• 申請號: 202011144922.1
• 申請日: 2020-10-23
• 公開（公告）號: CN112786424A
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 澤地淳;網倉紀彥
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本發明提供一種氣體供給系統、基板處理裝置和氣體供給系統的控制方法，抑制吹掃氣體向配管的上游側的逆流。氣體供給系統具有：配管，其供基板處理所使用的處理氣體流通；吹掃氣體導入管，其與配管連接并且向配管導入吹掃氣體；第1閥，其設于配管的比與吹掃氣體導入管連接的連接點靠上游側的位置；第2閥，其設于配管的比第1閥靠上游側的位置；以及控制部，其在使處理氣體向配管流通的情況下，將第1閥以及第2閥維持為開狀態，并且在將在配管內流通的氣體自處理氣體向吹掃氣體切換的情況下，將第1閥以及第2閥自開狀態向閉狀態切換。

技術領域

本公開涉及一種氣體供給系統、基板處理裝置和氣體供給系統的控制方法。

背景技術

在專利文獻1中，公開了在供基板處理所使用的處理氣體流通的配管連接吹掃氣體導入管，在將向配管流通的氣體自處理氣體向吹掃氣體切換時，將設于配管的上游側的閥自開狀態向閉狀態切換。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平2-50421號公報

發明內容

發明要解決的問題

本公開提供一種能夠抑制吹掃氣體向配管的上游側的逆流的技術。

用于解決問題的方案

基于本公開的一技術方案的氣體供給系統具有：配管，其供基板處理所使用的處理氣體流通；吹掃氣體導入管，其與所述配管連接并且向所述配管導入吹掃氣體；第1閥，其設于所述配管的比與所述吹掃氣體導入管連接的連接點靠上游側的位置；第2閥，其設于所述配管的比所述第1閥靠上游側的位置；以及控制部，其在使所述處理氣體向所述配管流通的情況下，將所述第1閥以及所述第2閥維持為開狀態，并且在將在所述配管內流通的氣體自所述處理氣體向所述吹掃氣體切換的情況下，將所述第1閥以及所述第2閥自開狀態向閉狀態切換。

發明的效果

根據本公開，起到能夠抑制吹掃氣體向配管的上游側的逆流這樣的效果。

附圖說明

圖1是示意性地表示實施方式的等離子體處理裝置的截面的一個例子的圖。

圖2是表示實施方式的氣體供給系統的概略結構的一個例子的圖。

圖3是對實施方式的氣體的切換進行說明的圖。

圖4是對實施方式的氣體的切換進行說明的圖。

圖5是對實施方式的泄漏檢測的一個例子進行說明的圖。

圖6是對實施方式的泄漏檢測的一個例子進行說明的圖。

具體實施方式

以下，參照附圖詳細說明各種實施方式。此外，在各附圖中，對相同或相當的部分標注相同的附圖標記。

另外，在基板處理裝置中，在將向配管流通的氣體自處理氣體向吹掃氣體切換時，有時會在設于配管的上游側的閥發生泄漏。若在設于配管的上游側的閥發生了泄漏的狀況下，開始自吹掃氣體導入管向配管導入吹掃氣體，則所導入的吹掃氣體經過閥而向配管的上游側逆流。吹掃氣體向配管的上游側的逆流成為產生吹掃氣體混入處理氣體的主要原因，是不優選的。因此，期望著抑制吹掃氣體向配管的上游側的逆流。

[基板處理裝置的結構]