[發明專利]氣體供給系統、基板處理系統及氣體供給方法在審
| 申請號: | 202011142969.4 | 申請日: | 2017-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN112286238A | 公開(公告)日: | 2021-01-29 |
| 發明(設計)人: | 澤地淳;綱倉紀彥;西野功二;澤田洋平;岸田好晴 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | G05D7/06 | 分類號: | G05D7/06;F16K1/32;F16K1/36;F16K1/42;F16K31/02;H01J37/32;H01L21/67;C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 龐乃媛 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 供給 系統 處理 方法 | ||
1.一種氣體供給系統,該氣體供給系統具備:
第1流路(L1),將第1氣源(GS1)和基板處理腔室(12)連接;
三通閥(VL2),配置在所述第1流路(L1)上;
第2流路(L2),將第2氣源(GS2)和所述三通閥(VL2)連接;
流量控制閥(VL1),配置在所述第2流路(L2)上;
節流孔(OL1),配置于所述第2流路(L2)上的、所述三通閥(VL2)和所述流量控制閥(VL1)之間;
至少一個排氣流路(EL),將所述流量控制閥(VL1)與所述節流孔(OL1)之間的所述第2流路(L2)上的連接部位(PP2)和排氣裝置(51)連接;以及
排氣機構(E),配置于所述至少一個排氣流路(EL)上。
2.根據權利要求1所述的氣體供給系統,其中,
所述節流孔(OL1)被安裝于所述三通閥(VL2),
所述三通閥(VL2)包含撓性部件(74),所述撓性部件(74)在關閉控制時密封所述節流孔(OL1),由此所述第2流路(L2)從所述第1流路(L1)分離,所述撓性部件(74)在打開控制時從所述節流孔(OL1)離開,由此所述第2流路(L2)與所述第1流路(L1)連通。
3.根據權利要求2所述的氣體供給系統,其中,
所述三通閥(VL2)還包括:下部主體部(71)、上部主體部(72)、配置在所述下部主體部(71)內的節流孔支承部(71d);
所述節流孔支承部(71d)朝向所述上部主體部(72)側突出、在其端部支承所述節流孔(OL1);
所述下部主體部(71)包括構成所述第1流路(L1)的一部分的內部流路(71c);
所述內部流路(71c)以包圍所述節流孔支承部(71d)的方式被劃分、可經由所述節流孔(OL1)與所述第2流路(L2)相連通。
4.根據權利要求3所述的氣體供給系統,其中,
所述三通閥(VL2)包括:
固定支承所述撓性部件(74)的缸體(76)、對所述缸體(76)向所述撓性部件(74)被按壓于所述節流孔(OL1)的方向彈性施力的施力部件(78)、以及使所述缸體(76)向與所述被按壓方向相反的方向移動的驅動部(81)。
5.根據權利要求1~4任一項所述的氣體供給系統,其中,
所述排氣機構(E)包括被配置于所述至少一個排氣流路(EL)上的排氣閥(VL3)。
6.根據權利要求5所述的氣體供給系統,其中,
該氣體供給系統還具備控制器,該控制器對所述流量控制閥(VL1)、所述三通閥(VL2)以及所述排氣閥(VL3)進行控制,以使得:
在第一期間,維持所述流量控制閥(VL1)以及所述排氣閥(VL3)的打開狀態,通過所述三通閥(VL2)使所述第2流路(L2)從所述第1流路(L1)分離;在所述第一期間之后的第二期間,維持所述流量控制閥(VL1)以及所述排氣閥(VL3)的打開狀態的同時,通過所述三通閥(VL2)使所述第2流路(L2)與所述第1流路(L1)連通。
7.根據權利要求1~4任一項所述的氣體供給系統,其中,
所述至少一個排氣流路(EL)包括小排氣流路(EL1)以及大排氣流路(EL2);
所述排氣機構(EA)包括:配置在所述大排氣流路(EL2)上的第1排氣閥(VL4)、以及配置在所述小排氣流路(EL1)上的第2排氣閥(VL3)。
8.根據權利要求1~4任一項所述的氣體供給系統,其中,
該氣體供給系統還具備:配置在所述第2流路(L2)上的、所述流量控制閥(VL1)和所述節流孔(OL1)之間的壓力檢測器(PM)以及溫度檢測器(TM);
所述流量控制閥(VL1)基于所述壓力檢測器(PM)以及所述溫度檢測器(TM)的檢測結果來控制所述第2流路(L2)中流動的氣體的流量。
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