[發(fā)明專利]一種微米級(jí)局域電化學(xué)沉積裝置及其工作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011142943.X | 申請(qǐng)日: | 2020-10-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112251779B | 公開(公告)日: | 2023-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許金凱;孫曉晴;任萬飛;于化東;田坤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長春理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C25D1/00 | 分類號(hào): | C25D1/00;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司: | 長春市吉利專利事務(wù)所(普通合伙) 22206 | 代理人: | 李曉莉 |
| 地址: | 130000 *** | 國省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 微米 局域 電化學(xué) 沉積 裝置 及其 工作 方法 | ||
本發(fā)明一種微米級(jí)局域電化學(xué)沉積裝置及其工作方法,屬于電化學(xué)沉積技術(shù)領(lǐng)域;包括氣浮平臺(tái),氣浮平臺(tái)上設(shè)置有位置移動(dòng)組件,位置移動(dòng)組件包括與氣浮平臺(tái)連接的X向運(yùn)動(dòng)單元,X向運(yùn)動(dòng)單元上連接有直角換向塊,直角換向塊的豎直端面固定Z向運(yùn)動(dòng)單元,Z向運(yùn)動(dòng)單元上設(shè)置有Y向運(yùn)動(dòng)單元;Z向運(yùn)動(dòng)單元遠(yuǎn)離Y向運(yùn)動(dòng)單元的一側(cè)設(shè)置有電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng),電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)的上方設(shè)置有打印系統(tǒng),下方設(shè)置有微陽極系統(tǒng);電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)的一側(cè)設(shè)置有電解質(zhì)溶液供給系統(tǒng);氣浮平臺(tái)上還設(shè)置有中央控制單元,中央控制單元內(nèi)部設(shè)置有加工程序,以控制加工時(shí)間和加工順序。本發(fā)明解決了許多復(fù)雜結(jié)構(gòu)零件的成形,并大大減少了加工工序,縮短了加工周期。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于電化學(xué)沉積技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種微米級(jí)局域電化學(xué)沉積裝置及其工作方法。
背景技術(shù)
電化學(xué)是研究兩類導(dǎo)體形成的帶電界面現(xiàn)象及其上所發(fā)生的變化的科學(xué)。其在化工、冶金、機(jī)械、電子、航空、航天、輕工、儀表、醫(yī)學(xué)、材料、能源、金屬腐蝕與防護(hù)、環(huán)境科學(xué)等科技領(lǐng)域獲得了廣泛的應(yīng)用,成為當(dāng)前世界上十分關(guān)注的研究課題。
電化學(xué)微增材制造技術(shù)是電化學(xué)領(lǐng)域的一個(gè)分支,局域電化學(xué)沉積是電化學(xué)微增材制造技術(shù)中的一種方法,其通過外加電壓驅(qū)動(dòng)溶液中的金屬離子還原到導(dǎo)電基材上而產(chǎn)生金屬結(jié)構(gòu)。相對(duì)于傳統(tǒng)金屬切削減材制造模式不同,這是一種“自下而上”通過材料累加的增材制造方法,從無到有。增材制造使得過去受到傳統(tǒng)制造方式的約束,而無法實(shí)現(xiàn)的復(fù)雜結(jié)構(gòu)件制造變?yōu)榭赡堋?/p>
局域電化學(xué)沉積技術(shù)不需要傳統(tǒng)的刀具和夾具以及多道加工工序,在一臺(tái)設(shè)備上可快速精密地制造出任意復(fù)雜形狀的零件,從而實(shí)現(xiàn)了零件“自由制造”,解決了許多復(fù)雜結(jié)構(gòu)零件的成形,并大大減少了加工工序,縮短了加工周期。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的問題是:提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)脈沖輔助電極跟隨電化學(xué)反應(yīng)池運(yùn)動(dòng),減小陽極供給液滴體積提高精度的微米級(jí)局域電化學(xué)沉積裝置。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的一種微米級(jí)局域電化學(xué)沉積裝置及其工作方法的具體技術(shù)方案如下:
一種微米級(jí)局域電化學(xué)沉積裝置,包括氣浮平臺(tái),所述氣浮平臺(tái)上設(shè)置有位置移動(dòng)組件,所述位置移動(dòng)組件包括與氣浮平臺(tái)連接的X向運(yùn)動(dòng)單元,所述X向運(yùn)動(dòng)單元上連接有直角換向塊,所述直角換向塊的豎直端面固定Z向運(yùn)動(dòng)單元,所述Z向運(yùn)動(dòng)單元上設(shè)置有Y向運(yùn)動(dòng)單元;
所述Z向運(yùn)動(dòng)單元遠(yuǎn)離Y向運(yùn)動(dòng)單元的一側(cè)設(shè)置有電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng),所述電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)的上方設(shè)置有打印系統(tǒng),下方設(shè)置有微陽極系統(tǒng),且所述打印系統(tǒng)和微陽極系統(tǒng)相互配合工作;
所述電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)的一側(cè)設(shè)置有電解質(zhì)溶液供給系統(tǒng),且所述電解質(zhì)溶液供給系統(tǒng)與電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)連接;
所述氣浮平臺(tái)上還設(shè)置有中央控制單元,所述中央控制單元內(nèi)部設(shè)置有加工程序,且所述加工程序與位置移動(dòng)組件、電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)、電解質(zhì)溶液供給系統(tǒng)、打印系統(tǒng)和微陽極系統(tǒng)通過數(shù)據(jù)線或無線通信連接,以控制加工時(shí)間和加工順序。
進(jìn)一步,所述X向運(yùn)動(dòng)單元、Y向運(yùn)動(dòng)單元以及Z向運(yùn)動(dòng)單元均包括底板、導(dǎo)軌、滑塊、絲杠和電機(jī),所述電機(jī)主軸末端與絲杠連接,所述絲杠與滑塊連接,所述滑塊設(shè)置在導(dǎo)軌上,且滑塊沿導(dǎo)軌方向往復(fù)移動(dòng)。
進(jìn)一步,所述氣浮平臺(tái)上通過螺栓與墊塊連接,所述X向運(yùn)動(dòng)單元通過螺栓與墊塊連接;
所述直角換向塊通過螺栓固定在X向運(yùn)動(dòng)單元的滑塊上,在直角換向塊的豎直端面通過螺栓固定Z向運(yùn)動(dòng)單元,所述Z向運(yùn)動(dòng)單元的滑塊上通過螺栓設(shè)置有Y向運(yùn)動(dòng)單元。
進(jìn)一步,所述電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)包括L形轉(zhuǎn)接塊、電化學(xué)反應(yīng)池、參比電極,所述L形轉(zhuǎn)接塊一端面與Y向運(yùn)動(dòng)單元的滑塊通過螺栓連接;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于長春理工大學(xué),未經(jīng)長春理工大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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