[發(fā)明專(zhuān)利]OLED顯示面板制備方法和OLED顯示面板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011141214.2
• 申請(qǐng)日: 2020-10-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112310332B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐乾坤;張曉星;張良芬
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L51/56
• 分類(lèi)號(hào): H01L51/56;H01L21/77;H01L27/32;H01L51/52
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 何輝

本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示面板制備方法包括：在形成阻擋層之前，制備一有機(jī)膜層作為犧牲層，圖案化處理犧牲層制備得到作為擋墻成型區(qū)的第一溝槽，然后在所述犧牲層表面形成一阻擋層材料，所述阻擋層材料填充所述第一溝槽，再利用掩膜板圖案化處理阻擋層制備得到高/窄的擋墻結(jié)構(gòu)，同時(shí)利用濕法刻蝕工藝去除第一溝槽；通過(guò)在形成阻擋層之前形成犧牲層，形成的擋墻結(jié)構(gòu)的厚度等于犧牲層的厚度加上阻擋層的厚度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及OLED顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種OLED顯示面板制備方法和一種OLED顯示面板。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的OLED顯示面板制備工藝中，在形成像素定義層后，會(huì)形成一阻擋層，所述阻擋層包括多個(gè)擋墻結(jié)構(gòu)，由于形成和曝光等工藝的限制，所述阻擋層的厚度難以超過(guò)3微米，而在發(fā)光層的制備中，往往需要至少4微米的擋墻結(jié)構(gòu)來(lái)阻擋量子點(diǎn)墨水的擴(kuò)散，因此，現(xiàn)有OLED顯示面板制備方法存在難以形成高/窄的擋墻結(jié)構(gòu)的技術(shù)問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例提供一種OLED顯示面板制備方法和一種OLED顯示面板，可緩解現(xiàn)有OLED顯示面板制備方法存在難以形成高/窄的擋墻結(jié)構(gòu)的技術(shù)問(wèn)題。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種OLED顯示面板制備方法，包括：

提供一襯底基板，在所述襯底基板上形成有陣列層、像素定義層；

在所述像素定義層上，制備一有機(jī)膜層，將所述有機(jī)膜層作為犧牲層；

對(duì)所述犧牲層進(jìn)行圖案化處理，制備得到作為擋墻成型區(qū)的第一溝槽；

在所述犧牲層表面形成一層阻擋層材料，所述阻擋層材料填充在所述第一溝槽內(nèi)，位于犧牲層表面的阻擋層材料高于所述犧牲層的高度；

利用掩膜板對(duì)所述阻擋層進(jìn)行圖案化處理，制備得到擋墻結(jié)構(gòu)。

在本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示面板制備方法中，在形成犧牲層的步驟中,還包括：在所述像素定義層上，制備一層聚酰亞胺材料，形成一聚酰亞胺層，將所述聚酰亞胺層作為犧牲層。

在本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示面板制備方法中，在形成犧牲層的步驟中,還包括：形成的所述聚酰亞胺層厚度范圍為2微米至3微米。

在本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示面板制備方法中，在形成一阻擋層的步驟中,還包括：形成的所述阻擋層的厚度范圍為2微米至3微米。

在本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示面板制備方法中，在形成高/窄的擋墻結(jié)構(gòu)的步驟中，還包括：在所述阻擋層上形成顯影液，再對(duì)所述阻擋層進(jìn)行圖案化處理，去除掉擋墻結(jié)構(gòu)以外區(qū)域的阻擋層。

在本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示面板制備方法中，在形成高/窄的擋墻結(jié)構(gòu)的步驟中，還包括：形成所述擋墻結(jié)構(gòu)的厚度范圍為4微米至6微米。

在本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示面板制備方法中，在形成高/窄的擋墻結(jié)構(gòu)的步驟中，還包括：形成所述擋墻結(jié)構(gòu)的寬度范圍為9微米至11微米。

在本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示面板制備方法中，在形成所述犧牲層之后的步驟中，還包括；在所述犧牲層上制備一有機(jī)膜層，所述有機(jī)膜層作為補(bǔ)償層，所述補(bǔ)償層的厚度范圍為2微米至3微米。

在本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示面板制備方法中，在形成所述補(bǔ)償層的步驟中，還包括：所述第二溝槽的制備材料與所述第一溝槽的制備材料相同，對(duì)所述補(bǔ)償層利用圖案化處理制備出第二溝槽。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種OLED顯示面板，包括：襯底基板、陣列層、像素定義層、擋墻結(jié)構(gòu)、發(fā)光功能層、封裝層；其中，所述擋墻結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述像素定義層上，所述擋墻結(jié)構(gòu)用于阻擋量子點(diǎn)墨水的擴(kuò)散，所述擋墻結(jié)構(gòu)的厚度范圍為4微米至6微米。