[發明專利]一種提高干燥窯沉降池澄清度的裝置

在審

• 申請號: 202011138135.6
• 申請日: 2020-10-22
• 公開（公告）號: CN112174277A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 張特;付光;馬紹斌;尹為波;劉殿傳;章華勇
• 申請（專利權）人: 云南馳宏鋅鍺股份有限公司
• 主分類號: C02F1/52
• 分類號: C02F1/52;C02F1/56;B01D47/06;C02F103/18
• 代理公司: 北京名華博信知識產權代理有限公司 11453
• 代理人: 張玉樞

1.一種提高干燥窯沉降池澄清度的裝置，其特征在于：所述的提高干燥窯沉降池澄清度的裝置包括噴淋除塵器、1#沉降池、2#沉降池、澄清池、噴淋水循環泵、1#加藥裝置和2#加藥裝置；所述噴淋除塵器底部通過管道連通至1#沉降池的上部；所述的1#沉降池、2#沉降池、澄清池間相互連通；所述澄清池通過管道連通至噴淋循環泵進口；所述噴淋循環泵出口通過管道連通至噴淋除塵器的頂部；所述1#加藥裝置和2#加藥裝置通過管道連通至噴淋除塵器與1#沉降池之間的連接管道上。

2.根據權利要求1所述的一種提高干燥窯沉降池澄清度的裝置，其特征在于：所述的1#加藥裝置和2#加藥裝置的加藥點間距為3-5m。

3.根據權利要求1或2所述的一種提高干燥窯沉降池澄清度的裝置，其特征在于：所述的1#沉降池、2#沉降池、澄清池間相互連通，各出水口間采用錯口流動。

4.根據權利要求1所述的一種提高干燥窯沉降池澄清度的裝置，其特征在于：所述的1#加藥裝置和2#加藥裝置分別設有計量裝置。